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芘基聚集诱导发光:调控聚集结构的桥梁模型与氧隔离机制研究
【字体: 大 中 小 】 时间:2025年07月09日 来源:The Innovation 33.2
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为解决传统有机固体材料设计中分子结构与宏观性质脱节的问题,研究人员以芘(Py)为模型开展聚集诱导发光(AIE)研究,揭示了氧隔离、取代基效应和分子运动在聚集过程中的协同作用,首次阐明了芘的反常AIE特性源于分子态氧淬灭与聚集态氧隔离的平衡,并通过天然松香胺修饰实现了动态加密解密应用。该研究为精准调控聚集结构提供了新范式。
在材料科学领域,传统"还原论"方法认为分子结构决定宏观性质,但水的气液相变、芘(Py)与六苯基硅烷(HPS)截然不同的聚集态发光行为(分别为聚集猝灭ACQ和聚集诱导发光AIE)等现象,暴露出分子结构与宏观性质之间存在"聚集结构"这一关键桥梁。如何通过调控聚集过程实现材料性能的精准设计,成为亟待解决的科学难题。
南京林业大学(根据通讯地址推断)的研究团队选择具有大平面共轭结构的芘作为理想模型,通过引入醛基(-CHO)、环己胺(-CyA)和脱氢枞胺(-DAA)等取代基,系统研究了氧环境、取代基效应和分子运动对聚集过程的综合影响。研究发现:芘在分子态因氧淬灭三重态激子而仅显示3.3%的量子产率(QY),但在聚集态通过氧隔离机制使QY提升至27.0%,首次揭示了其反常AIE特性;取代基的引入可显著改变聚集结构,其中松香衍生物修饰的Py-DAA同时具备机械变色(MCL)和酸致变色(ACL)特性,成功应用于动态加密系统。这项发表于《The Innovation》的研究,为理解"分子-聚集态-宏观性质"的构效关系提供了新视角。
研究采用密度泛函理论(DFT)计算能级结构,通过单晶X射线衍射解析四种化合物的堆积模式,结合瞬态荧光光谱分析氧淬灭机制,并利用粉末X射线衍射(PXRD)验证机械力诱导的相变过程。
分子合成与表征
通过席夫碱反应构建Py-CHO、Py-CyA和Py-DAA系列衍生物,单晶分析显示Py具有60.2%的重叠度和3.535 ?的π-π堆积距离,而Py-DAA因位阻效应呈现单分子发射特征。
芘及其衍生物的AIE行为解析
关键发现是芘在脱氧溶液中QY从3.3%跃升至54.0%,证实氧通过淬灭三重态激子抑制发光;聚集态中氧隔离效应使单体发射增强,同时形成二聚体发射(465 nm)。理论计算显示S1(3.450 eV)≈2×T1(1.719 eV),满足三重态-三重态湮灭(TTA)条件。
聚集态光物理行为
Py-CHO因醛基电子效应形成长程有序堆积(重叠度63.8%),导致543 nm红移发射;而Py-CyA保持离散二聚体结构,发射495 nm绿光。Py-DAA晶体中芘单元几乎无重叠,呈现422 nm深蓝光。
Py-DAA的刺激响应特性
研磨使Py-DAA从单分子态(QY=2.3%)转变为二聚体态(QY=15.8%),发射波长从422 nm红移至500 nm;三氟乙酸(TFA)质子化亚胺键引发电荷转移(CT),产生红光发射,该过程可通过三乙胺(TEA)逆转。
动态加密应用
利用Py-DAA的多重刺激响应性,设计了包含三维密码和路径指引的"藏宝图"系统:原始信息经TFA熏蒸显示红色解密路径,正确密码"rosin"仅在解密后的三维码中显现。
该研究不仅首次阐明芘的AIE机制源于氧介导的分子态淬灭与聚集态隔离的动态平衡,更通过天然松香衍生物修饰实现了聚集结构的精准调控。提出的"聚集结构桥梁"理论为有机发光材料设计提供了新思路,而开发的刺激响应系统在防伪加密、生物成像等领域展现出应用潜力,特别是为缺氧环境检测(如肿瘤细胞成像)提供了新型分子工具。研究突破传统分子工程局限,从介观科学层面实现了对材料性能的高阶调控。
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