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基于VO2相变的多层薄膜结构实现可见光-红外兼容伪装与可调发射率研究
【字体: 大 中 小 】 时间:2025年09月17日 来源:Optical Materials 4.2
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本文设计了一种ZnS/a-Si/VO2/SiO2/Si3N4/Al多层膜结构,通过VO2的绝缘体-金属相变(IMT)实现可见光迷彩与红外发射率动态调控的兼容伪装。该结构采用层间解耦设计,上层的ZnS/a-Si通过干涉效应产生结构色,下层VO2复合层实现8-14μm波段0.586的发射率调制量,为军事目标多光谱隐身提供了可规模化制备的解决方案。
?亮点(Highlights)
• 基于VO2相变设计出可见光-红外解耦的多层薄膜结构
• 通过ZnS/a-Si厚度调控实现红/蓝/黄等多色系结构色生成
• 利用SiO2/Si3N4厚度优化实现红外发射率峰值调控
• 实验验证橙黄色样品达到0.586的平均发射率调制量
?结构设计与模拟(Structural design and simulations)
我们设计了一种基于二氧化钒(VO2)的垂直堆叠薄膜结构,该结构由ZnS/a-Si/VO2/SiO2/Si3N4/Al六层薄膜组成,专为可见光-红外兼容伪装而生。这种分层设计巧妙地将可见光着色与红外调控功能分离:顶层ZnS/a-Si作为结构色生成层(具备红外透明特性),中间VO2层充当红外调控开关,底层SiO2/Si3N4/Al则构成红外反射基底。通过FDTD(有限时域差分法)模拟发现,调节ZnS(30-120nm)和a-Si(10-50nm)厚度可产生从蓝色到红色的连续色彩变化,而SiO2(100-300nm)与Si3N4(100-500nm)的厚度组合可精准定位红外发射峰。VO2在68℃发生的绝缘体-金属相变(IMT)使其在8-14μm波段发射率调制量超过0.5,而可见光波段光学常数变化微乎其微,真正实现了"色温分离"的智能伪装。
?结论(Conclusions)
本研究利用VO2相变过程中红外波段显著而可见光波段微弱的光学特性变化,设计出一种结构简单、成本低廉且可规模化制备的多层薄膜。理论模拟表明,通过调整ZnS和a-Si厚度可实现基于干涉效应的结构色调控,而SiO2/Si3N4厚度组合可定制红外发射峰位。实验制备的橙黄色样品在8-14μm波段实现0.586的发射率调制量,证实了该结构在可见光-红外兼容伪装领域的应用潜力。这种基于标准溅射工艺的薄膜结构,为军事装备动态隐身和防伪技术提供了新的解决方案。
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