皮质下卒中后前额叶皮层作为结构性远隔效应中心枢纽的研究

来自中国的研究人员针对皮质下卒中后远隔脑区结构功能改变机制尚不明确的问题，通过基于体素的形态学分析(VBM)和因果结构协方差网络技术，发现以前额叶皮层为中心的结构性远隔效应(diaschisis)模式，为脑卒中全脑成像标记物和神经调控靶点开发提供重要依据。

　　

研究通过横断面观察设计，纳入90例基底节和放射冠区单侧病变的皮质下卒中患者，采用基于体素的形态学分析(voxel-based morphometry, VBM)发现患者组内侧额上回(medial superior frontal gyrus)存在显著灰质体积减少。进一步运用因果结构协方差网络分析(causal structural covariance network)揭示该区域与前额叶皮层(如额下回inferior frontal gyrus)、颞叶区域(颞上回/颞中回)、边缘系统(岛叶、扣带回、海马旁回)及中央前回存在双向结构连接模式。值得注意的是，轻度缺损患者(NIHSS<5)的因果网络呈现更复杂特征。该研究首次证实皮质下卒中后可引发以前额叶皮层为枢纽的结构性远隔效应(diaschisis)，为全脑成像标记物和神经调控靶点开发提供理论支撑。