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在MoS2中稳定锂插层以实现2H到1T相变及低电阻边缘接触
《Advanced Materials Technologies》:Stabilizing Lithium Intercalation in MoS2 for 2H-to-1T Phase Transition and Low-Resistance Edge Contacts
【字体: 大 中 小 】 时间:2025年10月01日 来源:Advanced Materials Technologies 6.2
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锂插层MoS?(Li?MoS?)通过相变从半导体2H相转变为金属1T/1T’相,可制备低电阻边缘接触器件。研究揭示Li?MoS?对水敏感且高温(>150℃)易发生不可逆退化,提出优化工艺以实现约420 Ω·μm的接触电阻并抑制缺陷
锂离子在MoS2中的嵌入作用使其从半导体2H相转变为金属1T/1T’相,从而可以实现晶体管和二极管中低电阻边缘接触的制备。然而,由于锂具有化学反应性,所得到的LixMoS2的性质对制备方法非常敏感,这引发了对其在电子设备中稳定性和性能的额外担忧,而这些问题目前很少被讨论。本文研究了在n-丁基锂溶液中处理锂嵌入MoS2的方法,以获得最佳的晶体管边缘接触性能。研究了LixMoS2在各种溶剂、环境条件(空气和真空)以及热应力(从室温到300°C)下的稳定性,主要关注其电导率和相比例。研究发现,暴露于水中会导致LixMoS2的电导率立即下降;而在热应力作用下,当温度超过150°C时会发生不可逆的退化。因此,在器件制备过程中避免热应力至关重要。基于这些研究,本文提出了一种制备低电阻1T-LixMoS2边缘接触的最佳工艺,实现了约420 Ω μm的接触电阻,并且这种接触方式还显著减少了晶体管中的缺陷状态。
作者声明没有利益冲突。
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| 文件名 | 描述 |
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| admt70426-sup-0001-SuppMat.docx8.2 MB | 支持信息 |
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