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采用电子束蒸发技术在Kapton胶带上制备的非晶态锗薄膜,作为灵活的γ射线辐射监测材料
《physica status solidi (RRL) – Rapid Research Letters》:Amorphous Germanium Thin Films on Kapton Tape Fabricated Using Electron Beam Evaporation as Flexible γ-Ray Radiation Monitoring Materials
【字体: 大 中 小 】 时间:2025年10月03日 来源:physica status solidi (RRL) – Rapid Research Letters 2
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柔性非晶锗薄膜通过电子束蒸发制备,未加热真空室沉积速率0.01?/s,UV-Vis-NIR吸收和拉曼光谱证实其非晶特性及紫外至近红外吸收范围,X射线衍射和扩展XAFS显示结构稳定,经1-5kGy γ射线辐照后光学与结构性能变化表明其辐射监测上限达12kGy。
在本研究中,我们在Kapton胶带上制备了非晶锗(a-Ge)薄膜,并将其用于监测γ射线辐照。这些柔性的Ge薄膜是通过电子束蒸发技术形成的,过程中腔室未加热,沉积速率为0.01 ? s?1。紫外-可见-近红外(UV–vis–NIR)吸收光谱和拉曼光谱分析分别证实了薄膜在紫外到近红外区域的吸收特性以及其非晶态结构。X射线衍射和扩展X射线吸收精细结构分析揭示了a-Ge薄膜的原子结构,结果表明薄膜可能因Kapton胶带的柔韧性而发生宏观弯曲。样品所受的γ射线剂量相对较高,达到了5 kGy,超过了以往用于测试Ge基薄膜的典型剂量。样品分别接受了1、3、4和5 kGy的γ射线辐照。辐照后薄膜的结构和光学变化表明,这种柔性Ge薄膜能够在高达12 kGy的剂量水平下用于辐射监测。
作者声明不存在利益冲突。
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