通过脉冲电沉积技术，并结合优化的WS2纳米片增强机制，显著提升了NiFeP涂层的机械性能和抗腐蚀性能

《Advanced Engineering Materials》：Enhanced Mechanical and Corrosion Performance of Ni?P Coatings via Pulse Electrodeposition with Optimized WS2 Nanoplatelet Reinforcement

镍磷二硫化钨复合涂层脉冲电沉积制备及其性能研究，揭示不同浓度二硫化钨纳米片对涂层结构、硬度、耐磨性和耐蚀性的影响，最佳浓度8g/L时硬度达640HV，磨损率1.18×10^-6 mm3N?1m?1，耐蚀性显著提升，过量导致团聚影响性能。

　　

摘要

本研究探讨了通过脉冲电沉积法制备的镍-磷-二硫化钨（Ni–P–WS₂）复合涂层的结构、摩擦学和电化学性能，其中WS₂的浓度不同。添加WS₂纳米片显著影响了涂层的形态、晶粒尺寸、硬度、磨损率和耐腐蚀性。微观结构分析表明，在最佳WS₂含量下，涂层的晶粒得到细化，并形成了致密且无缺陷的结构。含有8?g?L^?1 WS₂的样品表现出优异的性能，其显微硬度达到640 HV，磨损率最低为1.18?×?10^?6 mm³?N^?1?m^?1。电化学测试结果显示，在该浓度下涂层的耐腐蚀性显著提高，腐蚀电流密度降低，电荷转移电阻增大。然而，过量的WS₂（>8?g?L^?1）会导致颗粒聚集，从而对涂层的均匀性和性能产生负面影响。这些结果突显了WS₂的分散状态和浓度在提升Ni–P涂层多功能性能方面的关键作用，使其适用于海洋、化工和航空航天等高性能应用领域。

利益冲突

作者声明没有利益冲突。