通过化学气相沉积在高熵合金上合成金刚石薄膜：微观结构、生长行为及腐蚀特性

《International Journal of Minerals Metallurgy and Materials》：Synthesis diamond films on high entropy alloys by chemical vapor deposition: Microstructure, growth behavior and corrosion

在TiZrHfMo高熵合金基底上通过MPCVD成功制备连续均匀的金刚石薄膜，XRD证实混合碳化物形成，拉曼光谱显示薄膜质量优异，腐蚀测试表明其极化电位达-0.169 V，表明高混合熵显著影响晶粒尺寸及耐腐蚀性。

　　

摘要

金刚石薄膜的异质外延技术受到了广泛关注；然而，由于其性质和结构与异质基底之间的不匹配，其应用仍然受到限制。在本研究中，利用微波等离子体化学气相沉积技术在高温熵合金（HEAs）基底上成功合成了金刚石薄膜。所得金刚石薄膜连续、均匀，并牢固地附着在基底上。通过X射线衍射分析了混合碳化物的成分，利用拉曼光谱技术评估了金刚石薄膜的质量。此外，腐蚀测试表明，在3.5wt%的NaCl溶液中，金刚石/TiZrHfMo样品具有优异的电化学稳定性和耐腐蚀性，其腐蚀电位值为-0.169 V。建立了一个多元回归模型来评估结构和生长参数的影响，结果证实混合熵显著影响了金刚石薄膜的晶粒尺寸和腐蚀性能。