压力控制下的抗溶剂扩散技术，可改善钙钛矿光电器件中的电流信号，并有效促进晶粒生长

《Journal of Materials Chemistry C》：Pressure controlled anti-solvent spreading for improved current signal with effective grain growth in perovskite optoelectronic devices

低压力反溶剂喷射策略通过扩大注射面积提升钙钛矿薄膜晶粒尺寸，减少损伤并抑制暗电流，使光探测器转换效率保持率提高17%，稳定性显著增强。

　　

在这项研究中，提出了一种策略来控制溶剂处理过程中的注入压力，以制备高质量的钙钛矿薄膜，从而提高基于钙钛矿的光电器件的性能。采用低压溶剂注入并扩大注入面积可以促进晶体颗粒的生长，同时减少薄膜损伤，从而显著提高分流电阻并降低缺陷密度。这有效地抑制了钙钛矿光电探测器（PPD）中的暗电流。此外，在常温空气条件（湿度>60%）下进行72小时的稳定性测试中，采用宽扩散处理的器件保持了初始功率转换效率（PCE）的81%，其效率保留率比采用窄扩散处理的器件高出约17%。这些结果清楚地表明，低压抗溶剂注入策略显著提高了器件的稳定性。因此，通过简单控制抗溶剂注入面积，可以同时优化基于钙钛矿的光电器件的晶体质量和长期稳定性。