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掺杂钼原子对AZO(MAZO)透明导电薄膜的影响
《Crystal Growth & Design》:Effect of Doping Mo Atoms on AZO (MAZO) Transparent Conductive Films
【字体: 大 中 小 】 时间:2025年10月22日 来源:Crystal Growth & Design 3.4
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本研究通过高钼掺杂铝掺杂氧化锌薄膜,显著减少表面缺陷,提升结晶度和薄膜质量,增强光学透射率和电导率。Mo+5和+6价态形成共价键,优化晶粒结构,提高硬度、弹性模量等机械性能,实现低电阻率(2.355×10?? Ω·cm)和高透光率(89.0%),适用于光电及防护涂层。

本研究探讨了高价钼(Mo)掺杂对铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜的光学、电学和机械性能的影响。通过加入适量的Mo,MAZO薄膜的表面缺陷显著减少,从而提高了结晶度和成膜质量。这些结构上的改进直接提升了薄膜的光学透射率。在MAZO薄膜中,Mo离子主要以+5和+6的高氧化态存在。每个掺杂的Mo原子向晶格捐赠多个自由电子,使得电导率显著提高。此外,高度极性的Mo–O共价键的形成以及晶粒结构的优化协同提升了薄膜的机械性能,包括硬度、弹性模量、耐磨性和抗蠕变性,从而提高了机械稳定性和使用寿命。最终制备出了具有优异光电和机械性能的MAZO薄膜,其电阻率为2.355 × 10–4 Ω·cm,光学透射率为89.0%。这些发现展示了Mo掺杂AZO薄膜在高性能光电子器件和保护涂层应用中的潜力。