二维拓扑晶体绝缘体中的边缘态稳定与控制

《Materials Today Physics》:Edge State Stabilization and Control in 2D Topological Crystalline Insulators

【字体: 时间:2025年10月23日 来源:Materials Today Physics 9.7

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  拓扑晶体绝缘体(TCI)的边态稳定性及调控方法研究。通过第一性原理计算,系统分析了二维TCI铋烯在弱基底相互作用(如h-BN)和对称保护异质结构(如h-BN/铋烯/h-BN)下的拓扑态稳定性。发现铋烯的臂chair(AC)边态易受基底影响导致对称性破缺,而zigzag(ZZ)边态因轨道分离更稳定。通过调节基底间范德华间隙(如压缩至2.9?)和施加电场(1.75 V/nm可打开120 meV边带隙),证实压力和电场可有效调控TCI的电子传输特性。提出异质结构设计可保护镜像对称性,为低能耗电子器件提供新思路。

  近年来,随着二维量子自旋霍尔绝缘体研究的深入,其在低能耗电子设备和自旋电子器件中的应用前景日益广阔。二维拓扑晶体绝缘体(TCI)因其独特的拓扑特性,特别是其边缘态在非磁性扰动下的稳定性,成为研究的热点。然而,实现这些拓扑边缘态在实际设备中的稳定性和可控性仍然面临诸多挑战。本文围绕二维TCI材料——平面状的铋烯(bismuthene),探讨了其在不同衬底上的行为,以及如何通过外部控制手段实现对其拓扑性质的调控。

在自由状态下的铋烯,其拓扑性质主要依赖于镜像对称性保护的边缘态。研究显示,当铋烯与衬底相互作用时,其拓扑态的稳定性会受到显著影响。例如,当将铋烯放置在某些衬底上时,如硅碳化物(SiC)或六方氮化硼(h-BN),边缘态可能会被破坏,从而导致其拓扑性质的丧失。然而,研究发现,如果衬底与铋烯之间的相互作用较弱,或者采用对称保护的异质结构(如h-BN/铋烯/h-BN三明治结构),则可以有效维持其拓扑特性。这种保护机制依赖于保持镜像对称性,从而防止边缘态的非拓扑化。

为了更深入地理解这些现象,研究人员使用了基于第一性原理的计算方法,结合了Wannier函数紧束缚模型,系统地分析了不同衬底对铋烯拓扑边缘态的影响。研究结果表明,弱相互作用的衬底如h-BN能够有效地保持边缘态的稳定性,而强相互作用的衬底则可能破坏其拓扑性质。通过调控衬底与铋烯之间的界面距离,例如施加外部压力或电场,可以实现对边缘态的调制。这种调控机制为设计新型电子器件提供了理论基础,尤其是在实现可切换的拓扑边缘电流方面具有重要意义。

此外,研究还发现,边缘态的性质不仅取决于衬底的相互作用强度,还与边缘的终止结构密切相关。例如,对于锯齿形(ZZ)边缘,其带隙和边缘态的退相干点主要位于高对称点,而这些点受镜像对称性保护,因此即使在较强的衬底扰动下,边缘态仍能保持其拓扑特性。相比之下,扶手椅形(AC)边缘由于其带隙在非对称点处形成,因此更容易受到衬底对称性破坏的影响。这一发现对于设计具有高稳定性和可调性的拓扑边缘态具有重要指导意义。

为了进一步验证这些结论,研究者还引入了Klein缺陷(一种边缘结构中的非均匀缺陷),并分析了其对边缘态的影响。结果显示,Klein缺陷能够改变边缘态的分布和带隙特性,从而为边缘态的调控提供了新的思路。这一现象表明,边缘态的稳定性不仅与镜像对称性的保持有关,还与边缘态的轨道组成密切相关。在某些情况下,边缘态的退相干点可能会因轨道混合而发生变化,进而影响其拓扑性质。

研究还通过有效紧束缚模型,模拟了外部电场对铋烯边缘态的影响。通过引入Rashba项,模型可以有效描述电场对拓扑态的调控作用。结果显示,当施加适当的电场时,可以打开边缘态的带隙,同时保持其拓扑特性。这一结果表明,外部电场可以作为一种有效的调控手段,用于实现拓扑态的开关行为。这种调控方式在低功耗电子器件的设计中具有重要的应用潜力。

进一步地,研究还探讨了铋烯与其他TCI材料(如(Pb,Sn)Te)的比较。虽然(Pb,Sn)Te在理论上已被广泛研究,但其实验实现仍面临诸多挑战,如难以获得高质量的TCI晶体。相比之下,铋烯具有较大的带隙(约0.8 eV),并且其二维结构使得边缘态的保护机制更加直观和可控。因此,铋烯在实现拓扑边缘态的稳定性和可调性方面具有明显优势。

研究还指出,外部压力和电场可以作为有效的调控手段,用于改变铋烯的拓扑态。例如,当界面距离减小时,边缘态的带隙会增大,从而提高其稳定性。然而,当界面距离进一步减小或镜像对称性被破坏时,边缘态的带隙会逐渐减小甚至消失。这一现象表明,界面距离和对称性是调控拓扑态的关键因素,而这些因素可以通过外部控制手段进行调整。

综上所述,本文的研究结果为二维TCI材料在电子器件中的应用提供了重要的理论支持。通过选择适当的衬底、调控界面距离以及利用外部电场和压力,可以有效实现对TCI边缘态的稳定和调控。这些发现不仅有助于理解TCI材料的拓扑性质,还为未来设计高性能、低能耗的电子和自旋电子器件提供了新的思路和方法。
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