hBN中定制单光子发射器的纳米压痕研究：退火对缺陷稳定性的影响

《ACS Nano》：Nanoindentation for Tailored Single-Photon Emitters in hBN: Influence of Annealing on Defect Stability

通过原子力显微镜碳涂层探针对多层hBN进行纳米压痕，成功制备出四种类型的单光子发射体（SPEs）。这些SPEs具有高亮度、窄线宽和一致偶极取向，因与局部原子环境解耦而表现出弱电子-声子相互作用。实验发现高温退火会导致hBN腐蚀，证实了缺陷工程可控性，为量子光子学应用奠定基础。

　　

通过原子力显微镜（AFM）的纳米压痕技术，在多层六方氮化硼（hBN）中制备出了量子发射体。将涂有碳的AFM探针压入hBN薄片，从而产生具有特定光谱特性的局部碳基缺陷，这些缺陷能够发出光信号。我们识别出了四种主要类型的单光子发射体（SPEs），并证明我们的制备技术能够高效地获得亮度高、线宽窄且偶极取向一致的发射体；其中大多数发射体的电子-声子相互作用较弱，因为这些发射体与周围的原子环境相对隔离。实验还表明，即使在惰性环境中，高温退火也会导致hBN发生蚀刻。这种缺陷工程方法为在hBN中可控地制备单光子发射体提供了途径，为可扩展的量子光子应用奠定了基础。