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面向晶圆缺陷检测的高效鲁棒SEM图像去噪方法研究
《Microscopy and Microanalysis》:Efficient and Robust SEM Image Denoising for Wafer Defect Inspection
【字体: 大 中 小 】 时间:2025年10月24日 来源:Microscopy and Microanalysis 3
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本研究针对扫描电子显微镜(SEM)图像中噪声干扰晶圆缺陷检测的难题,提出了一种结合松弛噪声到噪声(RN2N)框架与输入丢弃(Input Dropout)技术的ReNIn方法。该方法通过使用中等噪声水平的F08图像作为训练目标,在保证去噪性能接近监督学习方法(PSNR差距<0.5 dB)的同时,将数据采集成本降低8倍。输入丢弃机制有效提升了模型对未见过图像结构(如不规则圆形)的泛化能力,将圆形检测失败率从N2N的66.67%显著降低至1.08。该技术为半导体制造过程中的高效精准缺陷检测提供了实用解决方案。





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