综述：量子点直接光刻图案化的最新进展

《ACS Photonics》：Recent Progresses in Direct Photolithographic Patterning of Quantum Dots

量子点直接光刻技术在微显示中的应用研究综述。摘要：本文系统评述了量子点（QDs）直接光刻微纳加工技术的最新进展，重点解析QD表面配体工程的光响应机制与QD-聚合物复合材料的制备优化，并评估了该技术实现高分辨率、高亮度量子点像素阵列的微显示性能。提出需解决的材料稳定性、工艺兼容性及规模化生产等关键挑战，展望了多材料集成与智能光刻技术的未来发展方向。

　　

发光量子点（QDs）因其出色的光学特性而成为先进显示技术中极具吸引力的材料，这些特性包括强吸收能力、窄发射光谱和高光致发光量子产率。这些特点使得它们能够应用于需要高亮度、优异色彩纯度、宽广色域和快速响应时间的下一代微显示器中。在各种制备技术中，直接光刻法用于量子点的图案化是一种非常可靠的方法，可用于制造量子点像素阵列。该方法在分辨率、产量、响应时间、可扩展性以及与传统微纳制造工艺的无缝集成方面具有显著优势。本文综述了量子点直接光刻技术在微显示器应用中的最新进展，重点探讨了量子点表面配体工程的光响应机制以及量子点-聚合物复合材料的开发。此外，我们还评估了这些图案化量子点微结构在实际微显示器应用中的性能。最后，我们分析了当前在实际应用中面临的挑战，并提出了量子点直接光刻技术未来的发展方向，旨在为这一快速发展的领域提供有价值的创新思路。