综述:用于高性能钙钛矿发光二极管(perovskite light emitting diodes)的还原剂策略与稳定性提升方法
《Next Materials》:Reducing agent strategies and stability enhancements for high-performance perovskite light emitting diodes
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时间:2025年11月04日
来源:Next Materials CS1.9
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锡基钙钛矿发光二极管(Sn-PeLEDs)因近红外发射特性备受关注,但Sn2?氧化导致缺陷增多、效率下降及稳定性不足。本文系统分析了三种协同策略:1)还原剂(如SnF?、Sn?)抑制Sn2?→Sn??氧化;2)溶剂协调控制结晶动力学,优化薄膜形貌;3)界面钝化(如磷酰氧基、羧酸盐)减少表面复合。通过原位GIWAXS、XPS和TRPL等交叉验证,揭示了红ox缓冲与结晶调控的协同机制,并指出未来需发展AI辅助添加剂筛选、原位氧化映射及规模化工艺。
锡基钙钛矿发光二极管(PeLEDs)因其无铅特性而备受关注,成为新一代低成本、高效率发射器的有力候选。然而,这些材料在实际应用中仍面临主要挑战,即锡离子(Sn2?)在氧气和水分存在下容易被氧化为Sn??,从而引发一系列问题,包括形成深层陷阱、降低材料的光学性能以及影响器件寿命。为了应对这一挑战,研究者们提出了三种化学调控策略:还原剂的使用、配位控制的结晶过程,以及界面钝化技术。这些方法共同作用,能够有效抑制Sn2?的氧化,提高光致发光量子产率(PLQY)、外部量子效率(EQE)并延长器件寿命。
首先,还原剂的引入是解决Sn2?氧化问题的核心策略之一。通过使用还原性添加剂,如SnF?、Sn?(零价锡)、以及一些有机还原剂,如抗坏血酸和黄酮类化合物,可以显著降低Sn??的形成。这类添加剂不仅能够通过化学作用抑制氧化反应,还能在溶液中形成稳定的中间体,从而减少Sn2?在溶液老化过程中被氧化的可能性。例如,SnF?作为一种无机还原剂,能够通过与Sn2?形成配位键来稳定其存在,而Sn?则作为牺牲性还原剂,能有效清除溶液中残留的氧化剂。实验表明,SnF?与Sn?组合的还原剂在抑制Sn2?氧化方面表现出最强的效果,同时能够提高材料的光学性能,如光致发光量子产率和时间分辨光致发光寿命。此外,一些生物来源的还原剂,如hesperetin,也被证明可以同时减缓结晶过程和Sn2?的氧化,从而进一步提升器件性能。
其次,配位控制的结晶过程是另一个关键策略。这类方法通过使用Lewis碱性溶剂或螯合剂(如DMSO、DMPU和三苯基膦衍生物)来调节Sn–卤化物前驱体的配位环境,从而减缓成核过程,促进更均匀、致密的晶粒生长。这种调控不仅有助于减少薄膜中的亚带态缺陷,还能改善器件的表面形貌,降低非辐射复合的几率。例如,在使用DMSO作为溶剂的体系中,SnI?·DMSO中间体的形成显著延缓了Sn2?的氧化,并有助于获得更高质量的薄膜。然而,需要注意的是,某些强配位剂(如DMSO)在溶液老化过程中可能会促进Sn??的形成,因此,混合配位剂系统(如DMPU与DMSO的组合)被广泛用于平衡其优缺点,既保持了良好的结晶控制,又避免了氧化风险。这些配位溶剂的引入使得Sn基钙钛矿薄膜在光学和电学性能方面得到了显著改善,如更高的PLQY和更长的TRPL寿命。
第三,界面钝化技术是解决Sn2?氧化问题的另一重要手段。通过引入磷氧化物、羧酸盐或共轭配体,可以在Sn基钙钛矿薄膜的表面和晶界处形成稳定的钝化层,从而抑制非辐射复合并优化能量对齐。例如,三苯基膦(TPP)作为Lewis碱性还原配体,不仅能够有效抑制Sn2?的氧化,还能对薄膜中的缺陷进行钝化,并有助于调整界面能量对齐,从而提高器件的效率和稳定性。此外,一些有机分子,如氰尿酸(CA)和谷胱甘肽(GSH),也显示出对Sn2?氧化的抑制效果,同时改善了薄膜的结晶度和界面性能。通过界面钝化,研究者能够进一步减少器件中的非辐射复合,从而提升发光效率和工作寿命。
上述三种策略并非孤立存在,而是相互关联、协同作用的。在实际应用中,最佳的性能提升往往来自于对这三者进行综合优化。例如,一些研究通过同时使用SnF?作为还原剂、DMSO作为配位溶剂以及TPP作为界面钝化剂,实现了更长的器件寿命和更高的EQE。这类策略不仅能够减少Sn??的形成,还能改善薄膜的微结构,使其具有更低的亚带态密度,从而减少非辐射复合,提高发光效率。
在研究过程中,不同策略的应用效果也因具体材料体系和实验条件而异。例如,在早期研究中,SnF?的使用使得Sn基钙钛矿薄膜在无铅条件下能够保持较好的稳定性,但其效果受限于材料的结晶控制和界面钝化。随着研究的深入,越来越多的多功能添加剂被引入,如PEAI、维生素B1、黄酮类化合物和生物配体,这些添加剂能够同时抑制Sn2?的氧化、调节结晶过程并改善界面性能,从而显著提高器件的发光效率和寿命。然而,这些策略也伴随着一定的挑战,如某些还原剂可能在器件中留下有害残留,或者配位溶剂可能在溶液老化过程中引发新的问题。因此,在选择添加剂时,需要综合考虑其化学稳定性、处理条件以及对器件性能的长期影响。
为了验证这些策略的有效性,研究者们采用了一系列实验手段。例如,X射线光电子能谱(XPS)能够检测Sn??/Sn2?的比例变化,而时间分辨光致发光(TRPL)则可用于评估薄膜中深层陷阱的密度。此外,原子力显微镜(AFM)和X射线衍射(XRD)能够提供关于薄膜形貌和微结构的信息,而高角掠入射X射线散射(GIWAXS)则可用于跟踪前驱体到钙钛矿相的转化过程。通过这些手段的综合应用,研究者能够更准确地理解还原策略如何影响Sn基钙钛矿的性能,并为后续优化提供依据。
在实际器件制造过程中,环境控制同样至关重要。由于Sn2?对氧气和水分高度敏感,通常需要在惰性气体(如氮气或氩气)环境中进行涂覆、转化和封装。这不仅能够减少Sn2?的氧化,还能确保薄膜的均匀性和结晶质量。此外,一些研究通过在器件中引入特定的界面层,如磷氧化物或共轭配体,进一步优化了能量对齐,从而提高了器件的效率和稳定性。例如,在使用DMSO作为配位溶剂的体系中,SnI?·3DMSO中间体的形成有助于获得更致密的薄膜结构,而配合其他还原剂的使用,则能够进一步抑制Sn2?的氧化。
尽管Sn基钙钛矿发光二极管的研究取得了显著进展,但仍然存在一些限制。首先,Sn2?的氧化问题在大规模生产或长期使用中仍然可能导致性能下降。其次,部分研究的证据链尚不完整,缺乏对化学、物理和光学性能的全面验证,这使得不同研究之间的结果难以直接比较。因此,未来的研究应更加注重对化学机制的深入理解,并结合多种实验手段,如时间分辨XPS、TRPL、AFM和XRD,以建立更可靠的证据链。此外,开发低毒性的多功能添加剂,能够同时实现还原、结晶控制和界面钝化,将是提升Sn基钙钛矿发光二极管性能的重要方向。
展望未来,Sn基钙钛矿发光二极管的研究仍有许多值得探索的方向。一方面,可以通过设计更高效的还原剂和配位溶剂,实现更全面的Sn2?氧化抑制和更均匀的薄膜生长。另一方面,发展更精确的界面钝化策略,如通过调整钝化层的厚度和覆盖范围,以优化器件的电荷注入和复合效率。此外,通过结合先进的原位和操作过程中分析技术,如GIWAXS和操作过程中XPS,可以更直观地理解Sn基钙钛矿的微结构演变和氧化行为,从而为性能优化提供指导。最后,开发适用于大规模生产的加工方法,如旋涂、刮刀涂布或喷墨打印,同时保持对Sn2?氧化的抑制和对薄膜性能的调控,将是推动Sn基钙钛矿发光二极管走向实际应用的关键步骤。
总之,Sn基钙钛矿发光二极管的研究正处于快速发展阶段,其性能的提升依赖于对Sn2?氧化的抑制、薄膜结晶的调控以及界面钝化的优化。通过结合还原剂、配位溶剂和界面处理等多种策略,并辅以系统的实验验证,研究者们正逐步克服这一材料的局限性,推动其在显示、照明和光学通信等领域的应用。未来的研究应继续关注如何在不同材料体系中实现更高效、更稳定的Sn基钙钛矿发光二极管,并探索更加环保和多功能的添加剂,以满足实际应用的需求。
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