基于位点选择性的电化学方法对吡唑酮类化合物进行C(sp3)–H官能团的后期修饰

《Green Chemistry》：Site-selective electrochemical C(sp3)–H late-stage functionalization of pyrazolones

选择性电化学C3H键后修饰法无需金属/氧化剂/碱，适用于116种底物并实现0.5摩尔连续流合成。机理揭示nBu4NOAc兼具电解质和弱碱功能促进去质子化，化合物65显示强COX-2抑制和抗炎活性。

　　

选择性激活惰性且普遍存在的C(sp3)–H键一直是有机合成中的一个挑战性任务，通过这一方法，化学家可以从廉价且易于获取的烷烃原料直接合成高附加值化合物。在此，我们报道了一种在无金属、无氧化剂和无碱条件下，对吡唑酮进行位点选择性电化学C(sp3)–H后期官能化的方法。值得注意的是，该方法具有广泛的底物适用范围（116个实例），并且可以通过连续流动工艺实现醚类化合物的可规模化合成（0.5摩尔）。机理研究表明，nBu?NOAc不仅作为电解质发挥作用，还通过其醋酸根离子使溶液略微呈碱性，从而促进脱质子化过程。体内和体外生物活性数据表明，化合物65具有显著的环氧化酶-2（COX-2）抑制活性和抗炎效果，使其成为开发新型药物实体的有希望的候选分子。