端到端轨迹生成:深度生成模型与语言模型的对比

《ACM Transactions on Spatial Algorithms and Systems》:End-to-end Trajectory Generation - Contrasting Deep Generative Models and Language Models

【字体: 时间:2025年11月07日 来源:ACM Transactions on Spatial Algorithms and Systems

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  提出两种端到端轨迹生成方法:EETG-SVAE结合变分自编码器(VAE)与动态时空先验,通过分解全局语义(如通勤目的)和局部语义(如具体路径选择)并引入约束优化;EETG-LM采用语言模型架构,将轨迹建模为序列,利用自注意力机制隐式学习时空结构。实验表明,两方法在轨迹分布(MMD)、点密度(Heatmap)及时空约束(速度、转向角)上均优于现有规则模型(如Ditras)和简化深度模型(如SVAE-z)。

  随着科技的发展,定位技术的进步使得我们能够收集到大量关于移动物体的数据,包括GPS轨迹、车辆车队的离散签到数据以及基于位置的服务数据。这些数据的广泛应用推动了时空数据挖掘、数据管理以及交通规划和城市分析等领域的研究进展。然而,由于实际大规模数据集的获取存在一定的限制,合成轨迹数据在这些研究领域中发挥着关键作用。现有的轨迹生成方法大多依赖于预定义的启发式规则,无法学习到轨迹生成过程中的未知机制。为了解决这些问题,本文提出了一种新的端到端轨迹生成方法,包括一种基于深度生成模型的EETG-SVAE框架和一种受语言模型启发的EETG-LM方法。

### 轨迹生成的挑战

轨迹生成面临几个主要挑战。首先,如何区分轨迹中的全局语义和局部语义是一个重要问题。全局语义指的是轨迹的整体目的,例如“通勤”、“在市中心漫步”或“机场接送”,而局部语义则涉及具体的路线选择和时间依赖关系。现有的方法在这一方面表现不佳,无法有效分离或建模这些语义。其次,缺乏能够处理轨迹不同部分之间相互依赖性的表达性先验,这使得生成模型难以捕捉轨迹的复杂结构。最后,生成轨迹需要满足一定的时空有效性约束,如几何约束、物理约束和社会约束,确保轨迹的合理性。这些约束使得生成模型在连续空间中保持合理的行为模式,而传统的深度模型由于假设连续分布,难以严格避免违反这些原则的情况。

### EETG-SVAE框架

为了解决上述问题,本文提出了EETG-SVAE框架,该框架基于变分自编码器(VAE)模型,通过引入动态先验来增强模型的表达能力。该框架的核心在于将轨迹分解为全局语义和局部语义,并通过动态先验来处理轨迹点之间的依赖关系。具体来说,EETG-SVAE模型包括三个主要部分:全局语义编码器、局部语义编码器和先验生成器。全局语义编码器负责从轨迹中提取整体目的,局部语义编码器则处理每个时间点的局部变化,而先验生成器则负责生成动态先验,以捕捉轨迹的时空变化模式。

此外,为了确保生成轨迹的时空有效性,本文引入了约束优化方法。通过将时空有效性约束转化为可学习的公式,并结合梯度下降技术,EETG-SVAE能够在训练过程中生成符合实际物理和地理规律的轨迹。实验结果显示,EETG-SVAE在多个指标上优于现有方法,包括平均距离误差(MDE)和最大均值差异(MMD)等。

### EETG-LM方法

另一种方法是基于语言模型的EETG-LM,该方法将轨迹视为句子,利用自注意力机制和位置嵌入来学习轨迹的分布。这种方法能够隐式地捕捉轨迹中的时空结构和嵌入语义,同时通过位置嵌入和自注意力机制来保持轨迹的连贯性和有效性。EETG-LM通过将连续的GPS坐标转换为离散的网格单元,确保生成轨迹符合地理约束。这种方法的优势在于其能够利用语言模型的自回归特性,生成符合实际行为模式的轨迹,同时保持对不同网格单元的适应性。

### 实验结果

为了验证所提出方法的有效性,本文在四个数据集上进行了实验,包括两个GPS出租车轨迹数据集和两个签到数据集。实验结果显示,EETG-SVAE和EETG-LM在多个指标上均优于传统方法,如基于规则的方法和简单的LSTM模型。特别是在MDE和MMD指标上,EETG-SVAE和EETG-LM表现出了显著的提升。此外,通过分析生成轨迹的点分布,可以发现EETG-SVAE和EETG-LM能够更准确地捕捉轨迹的时空特征,从而生成更符合实际的轨迹。

### 未来工作

本文提出的方法在轨迹生成领域具有重要的应用价值,但也存在一些需要进一步研究的问题。例如,如何更有效地整合显式的时空约束到语言模型中,以及如何提升模型的可解释性,使其能够更好地理解和模拟人类行为模式。此外,将这些方法应用于其他任务,如移动性挖掘、动物迁徙模式分析和体育数据分析,也是未来研究的一个重要方向。通过这些努力,我们可以进一步提升轨迹生成的质量和适用性,使其在更广泛的应用场景中发挥作用。
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