《Scripta Materialia》:Thermoelectric properties of semiconducting approximant crystals in the Al–Ge–Ru system
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半导体近似晶格(AC)在Al–Ge–Ru系统中合成,带隙约0.25 eV,首次观测到n型半导体AC的负塞贝克系数(最大200 μV K?1),在473 K时热电优值达0.28,创quasicrystalline材料热电性能最高纪录。
岩崎雄隆(Yutaka Iwasaki)|二和康宏(Yasuhiro Niwa)|北原康一(Koichi Kitahara)|木村香织(Kaoru Kimura)|田村龙二(Ryuji Tamura)
日本国立材料科学研究所(NIMS):茨城县筑波市千间1-2-1,邮编305-0047
摘要
半导体准晶体及其近似晶体(ACs)因其作为热电材料的潜在应用而受到了广泛关注。本文报道了Al–Ge–Ru体系中一种半导体AC的合成及其热电性能。该Al–Ge–Ru AC的带隙约为0.25电子伏特。值得注意的是,我们观察到了负的塞贝克系数,其最大值为200 μV K?1,这是首个n型半导体AC的实例。Al74Ge4Ru22 AC在473 K的峰值温度下展现出简并半导体行为,其无量纲优值达到了0.28,这是迄今为止基于准晶体的热电材料所实现的最高优值。
部分内容摘录
资助
本研究得到了日本学术振兴会(Japan Society for the Promotion of Science)的科研资助(项目编号:JP19H05817、JP19H05818、JP19K15274、JP23K26367、JP23H01673、JP24K17495)以及日本科学技术机构(Japan Science and Technology Agency)CREST项目的支持(项目编号:JPMJCR22O3)。
作者贡献声明
岩崎雄隆:撰写、审稿与编辑、初稿撰写、数据可视化、研究指导、资源协调、资金申请、概念构思。二和康宏:数据可视化、结果验证、研究协助。北原康一:结果验证、资金申请。木村香织:结果验证、资金申请。田村龙二:结果验证、研究指导、资源协调、资金申请。