等离子体诱导CoNi-MOF-74在室温下重构为纳米多孔表面，以增强氧演化反应性能

《ACS Applied Nano Materials》：Plasma-Induced Reconstruction of CoNi-MOF-74 into Nanoporous Surfaces at Room Temperature for Enhanced Oxygen Evolution Reaction

金属有机框架（MOF）材料经室温DBD等离子体处理，表面产生裂纹并暴露纳米孔道，形成高密度CoNi-氧化物纳米团簇，使氧析出反应（OER）过电位降至173mV（10mA/cm2），循环稳定性优异（4000次<20mV衰减）。该绿色工艺突破传统高温活化局限，为柔性电子器件催化层设计提供新路径。

　　

金属有机框架（MOF）衍生材料作为高效且稳定的电催化剂，在氧演化反应（OER）中展现出巨大潜力。然而，传统的制备方法（如高温煅烧和化学蚀刻）通常需要苛刻的反应条件，并不可避免地会损害材料的结构完整性，从而限制了其实际应用。为了解决这一挑战，本研究提出了一种创新的室温介电屏障放电（DBD）等离子体表面工程方法，能够在室温下精确激活CoNi-MOF-74催化剂。经过DBD处理后，NF/PMOF的表面被蚀刻，产生裂纹并暴露出内部框架的纳米多孔结构。值得注意的是，仅需5分钟的DBD表面处理，所得催化剂NF/PMOF5在电流密度为10 mA cm^–2时就能实现173 mV的超低过电位和43 mV·dec^–1的塔菲尔斜率，与未经处理的样品（307 mV, 109.5 mV·dec^–1）相比有了显著提升。该催化剂还表现出出色的稳定性，在4000次循环后电位变化极小（<20 mV）。详细表征表明，DBD处理不仅保持了MOF-74的晶体完整性，还优化了其电子结构，并生成了高密度的CoNi氧化物纳米簇，显著提高了OER的反应速率。由于这种处理方法环保且条件温和，不仅为MOF催化剂的设计提供了更多选择，还在柔性电子设备的加工中展现了优势。