实时非线性分析(NVNA)用于捕获GaN HEMT在陷阱效应作用下随时间变化的IV特性

《IEEE Microwave Magazine》:Real-Time NVNA for the Acquisition of Time-Evolving IV Characteristics of GaN HEMTs During Trapping

【字体: 时间:2025年11月25日 来源:IEEE Microwave Magazine 2.6

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  提出基于校准实时非线性矢量网络分析仪(NVNA)的新方法,通过脉冲类B负载线跟踪和动态捕获模型分析,结合RTALP测量与IV特性匹配,实现GaN HEMT陷阱效应的快速详细表征,揭示低频大信号操作下的记忆效应机制。

  

摘要:

对于GaN HEMTs(氮化镓高电子迁移率晶体管)而言,陷阱效应的研究仍然是一个活跃的领域,尤其是在该技术逐渐成熟并得到更广泛工业应用的情况下。目前已经存在多种用于测量陷阱行为和特性的测试技术,并且这些技术已被有效地运用。本文提出了一种新的陷阱特性分析方法,该方法利用经过校准的实时非线性矢量网络分析仪(NVNA)对低频大信号晶体管的工作状态进行预稳态测量。通过在不同占空比下对脉冲负载线进行跟踪,并根据脉冲静态漏电流数据建立了一个动态陷阱模型。同时,还考虑了调制大信号测量方法;文中展示了在B类应力脉冲前后进行的脉冲实时有源负载牵引(RTALP)测量结果。从持续时间为200 ns的脉冲RTALP负载线中提取的IV特性曲线与反映诱发电荷陷阱状态的偏置条件下的脉冲IV测量结果相匹配。这些新的测量方法表明,实时NVNA能够快速且详细地分析GaN HEMTs中的记忆效应(如陷阱效应)。
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