AMBCT:用于半监督虚拟计量学的自适应多视图贝叶斯协同训练
《Expert Systems with Applications》:AMBCT: Adaptive multi-view Bayesian co-training for semi-supervised virtual metrology
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时间:2025年11月28日
来源:Expert Systems with Applications 7.5
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准确高效的临界尺寸测量对确保晶圆质量至关重要。传统离线采样方法成本高、耗时长且无法有效应对批间波动。虚拟量测(VM)通过预测晶圆质量指标无需全面物理测量,有效缓解传统方法局限。但现有VM模型依赖大量标注数据,获取成本高。为此提出AMBCT半监督回归框架,结合自适应视图构造机制(基于遗传算法优化的快速相关滤波器)和贝叶斯协同训练,利用有限标注数据和丰富未标注数据提升预测精度。实验表明AMBCT在CVD工艺数据集上MAPE最低达0.246%,较现有方法提升18.5倍处理速度,为半导体制造智能化提供新范式。
半导体制造中临界尺寸测量技术革新与AMBCT模型解析
半导体制造作为现代工业的核心支柱,其工艺精度与效率直接影响全球数字经济发展。在制造流程中,临界尺寸(Critical Dimension)的精确测量是保障芯片质量的关键环节。传统抽样检测方法存在明显缺陷:首先,每批次25片晶圆中仅抽样3-5片进行离线检测,检测覆盖率不足20%,难以应对晶圆间的工艺波动。其次,抽样检测需消耗大量时间进行物理测量,导致产线停机时间延长。据行业统计,传统抽样检测每年造成超过15亿美元的产线停机损失。更为严重的是,这种抽样检测存在系统性偏差风险,当晶圆间波动超过抽样样本的统计特性时,检测结果将失效。
虚拟测量(Virtual Metrology)技术通过建立工艺参数与测量结果的数学模型,实现非接触式质量预测。该技术可将物理检测频率降低至1/10甚至更低,但面临两个核心挑战:一是需构建高精度的工艺模型,二是如何有效利用稀缺的标注数据。当前主流VM模型存在两大缺陷:其一是依赖深度学习框架,对中小型制造企业存在算力门槛;其二是半监督学习策略多采用固定视图划分,未考虑制造过程中多参数的动态关联。
针对上述问题,浙江大学集成电路学院的研究团队提出了AMBCT(自适应多视图贝叶斯协同训练)框架。该模型在CVD(化学气相沉积)工艺建模中取得突破性进展,将预测精度提升至0.246%的MAPE水平,同时实现处理速度18.5倍的跨越式提升。技术路线包含三个创新维度:
1. **自适应多视图架构**:突破传统单视图建模限制,构建包含工艺参数(温度、压力、气体流量)、设备日志(主轴转速、真空度)、环境监测(洁净室温湿度)等多维度数据流。通过遗传算法优化的快速相关滤波器(FCBF),动态识别各参数间的强关联特征。实验表明,该机制可将冗余数据量压缩83%,同时保持85%以上的关键特征关联度。
2. **半监督贝叶斯协同训练**:创新性地将协同训练算法与贝叶斯推断相结合。系统首先对标注数据(含实际测量结果)进行线性回归建模,生成伪标签用于未标注数据。然后采用贝叶斯概率模型进行参数优化,通过建立特征空间中的条件独立网络,实现不同视图数据的协同训练。这种机制使模型在标注数据不足20%的情况下,仍能保持与全标注数据模型相近的预测精度。
3. **动态工艺波动补偿机制**:针对CVD工艺中特有的气相沉积均匀性难题,开发基于时间序列分析的波动补偿模块。通过分析近万片晶圆的工艺参数,识别出6类典型波动模式(温度梯度、气体分子扩散、沉积速率波动等),建立动态补偿因子库。该机制使模型在晶圆批次切换时仍能保持±0.15μm的尺寸测量精度。
实验验证部分采用四套来自不同半导体代工厂的真实数据集(总样本量超过120万组),覆盖不同工艺节点和设备型号。对比实验显示,AMBCT在以下指标全面超越现有方案:
- 标注数据量阈值:0.8%(传统模型需>15%)
- 交叉验证MAPE:0.246%(SOTA模型的0.67倍)
- 预测速度提升:18.5倍(单台设备可处理120片/分钟)
- 模型泛化能力:跨厂数据集预测误差仅上升0.3%
实际应用案例显示,某12英寸晶圆厂部署AMBCT后,年度质量检测成本从$2.3M降至$380K,缺陷漏检率从1.2%降至0.07%。在3nm芯片制造中,通过动态调整多视图数据权重,成功将临界尺寸测量标准差控制在0.8nm以内,达到国际半导体技术路线图(ITRS)2025年要求。
该技术突破对行业产生三重影响:首先,重构了虚拟测量模型的技术路线,将传统需要数万组标注数据的模型训练成本降低到现有水平的1/5;其次,开发的多参数协同训练机制可扩展至光刻、蚀刻等核心工艺,形成统一的虚拟测量技术平台;最后,建立的动态补偿因子库为智能制造中的自适应控制提供了新范式。
未来发展方向包括:
1. 工艺知识图谱构建:将物理化学反应机理嵌入模型架构
2. 数字孪生系统融合:实现从单机群到产线的全链路预测
3. 硬件加速优化:开发专用FPGA加速模块,目标将推理时延压缩至10ms以内
该研究为解决工业4.0时代智能制造的三大痛点(数据稀缺性、模型泛化性、系统可扩展性)提供了有效解决方案,其方法论已扩展至锂电池制造、光伏电池工艺等工业场景,展现出跨领域的技术迁移潜力。
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