一种基于垂直GAA晶体管的新型3D-SRAM架构,适用于高级人工智能和边缘计算应用

《IEEE Transactions on Electron Devices》:A Novel 3D-SRAM Architecture Based on Vertical GAA Transistors for Advanced AI and Edge Computing Applications

【字体: 时间:2025年12月12日 来源:IEEE Transactions on Electron Devices 3.2

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  三维静态随机存取存储器(SRAM)通过垂直栅全环绕(VGAA)晶体管设计实现面积优化(较传统3nm SRAM减少70%),TCAD仿真表明通道长度(LCH)和间隔长度(LSP)显著影响噪声容限与待机功耗,工作函数变异(WFV)导致写入操作易受变异影响。经结构优化(单元比CR与提升比PR),在0.6V电源电压下满足6σ良率,同时提升电压最小值(VMIN)和写入稳定性。该设计为AI与边缘计算提供高效能能比与紧凑型存储方案。

  

摘要:

我们提出了一种基于垂直全环绕栅极(VGAA)晶体管的新颖3D-SRAM架构,旨在解决传统平面静态随机存取存储器(SRAM)在先进技术节点中的局限性。该比特单元利用四个垂直对齐的硅柱来实现六个晶体管,与传统3纳米节点SRAM相比,面积减少了约70%。通过TCAD仿真优化了器件参数,发现沟道长度(LCH)和间隔层长度(LSP)显著影响噪声裕度和待机功耗。结合功函数变化(WFV)的统计分析表明,写操作特别容易受到变异性影响,因此需要进一步优化。通过利用VGAA设计的结构灵活性,我们微调了单元比例(CR)和上拉比例(PR),以满足在电压VDD = 0.6 V时读写操作的6σ产量标准。这种配置不仅提高了VMIN和写操作的稳定性,还保持了较低的待机功耗。这些发现表明,基于VGAA的3D-SRAM是人工智能(AI)和边缘计算系统中高效节能且紧凑的存储解决方案的有力候选者。
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