氙离子双内壳层空穴态中集体俄歇衰变的理论研究
《Atoms》:Collective Auger Decay of 4d?2 Double Inner-Shell Vacancy in Xe
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时间:2025年12月25日
来源:Atoms 1.5
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本文深入探讨了Xe2+离子4d-2双内壳层空穴(DCH)态的俄歇电子谱(AES),重点揭示了传统上被忽视的集体俄歇衰变(CAD)通道的显著贡献。研究通过大规模组态相互作用(CI)和相对论多组态狄拉克-福克(MCDF)方法,精确计算了各精细结构能级的衰变速率与分支比(BR),发现CAD过程占总衰变率的~2%,与实验测量高度吻合。这项工作不仅修正了对重元素双空穴态衰变动力学的传统理解,强调了电子关联效应在多重电离过程中的关键作用,也为利用AES探测原子分子系统中的集体电子行为提供了新的理论视角。
在原子物理领域,内壳层空穴态的衰变过程,特别是涉及多个内壳层电子的复杂衰变,一直是研究电子关联效应和弛豫动力学的关键探针。其中,氙(Xe)作为一种重要的重稀有气体元素,其4d内壳层在软X射线能区具有显著的光电离截面,使得Xe的离子成为研究多重电离和后续衰变过程的理想体系。本文聚焦于Xe2+离子的4d-2双内壳层空穴(DCH)态,通过高精度的理论计算,系统揭示了其俄歇衰变通道,特别是一种被称为集体俄歇衰变(CAD)的非传统衰变路径的显著贡献。
本研究的核心理论工具是相对论性的组态相互作用(CI)方法结合多组态狄拉克-福克(MCDF)计算框架。该方法充分考虑了相对论效应和电子关联效应,对于精确描述像氙这样的重元素至关重要。计算中,体系的波函数通过求解狄拉克-库仑哈密顿量得到,其中包含了电子与核的库仑相互作用以及电子间的库仑排斥作用。为了构建准确的原子态波函数,研究采用了大规模的CI展开,包含了来自4d-25s25p6组态以及通过双电子激发产生的众多激发组态,例如激发到5d、5f、5g、6s、6p、6d、6f、7s、7p、7d等轨道的组态。这种广泛的CI基组确保了初始态和末态波函数的描述具有很高的精度,这对于可靠计算俄歇矩阵元,尤其是涉及多电子跃迁的CAD过程至关重要。
俄歇衰变速率的具体计算基于微扰理论。对于从初始DCH态 |Ψi> 到末态(一个单电荷离子态)加一个连续谱俄歇电子 |Ψf, εfκf> 的跃迁,其衰变速率 Aif正比于跃迁矩阵元的平方。该矩阵元包含了电子-电子库仑相互作用算符。总的俄歇衰变宽度(Γ)则由所有可能衰变通道的速率求和得到。每个衰变通道在俄歇电子能谱(AES)中以一定的能量和强度(由衰变速率决定)呈现,通常用洛伦兹线型来模拟自然线宽。
计算首先确定了Xe2+4d-25s25p6组态的9个精细结构能级。这些能级的能量相对于Xe2+的基态能级分布在118 eV到130 eV的范围内。分析表明,这些能级的俄歇衰变速率并不简单地随能级升高而单调增加。例如,能量最低的能级(标记为1号能级,其组态为[(4d3/24)0(4d5/24)4]45s25p6)的总衰变速率约为1.218 × 1014s-1,而能量最高的能级(9号能级,[(4d3/22)0(4d5/26)0]05s25p6)的衰变速率最快,达到2.827 × 1014s-1。
对于这些DCH态,占主导地位的正常俄歇衰变(即一个电子从外层轨道填充内壳层空穴,同时发射另一个电子)通道是衰变到4d-15s25p4、4d-15s15p5和4d-15s05p6组态的末态。这些衰变产生的俄歇电子能量主要分布在40 eV以下。例如,对于1号能级,最强的衰变通道是到某个特定的4d-15s25p4末态能级,其俄歇电子能量约为29.6 eV,衰变速率高达8.523 × 1012s-1。
本研究的核心发现在于对集体俄歇衰变(CAD)通道的识别和定量计算。CAD是一种协同过程,其中两个外层电子(例如来自5s或5p轨道)同时填充两个4d内壳层空穴,并发射一个单一的俄歇电子。这种过程在传统的单电子图像下是禁戒的,其发生强烈依赖于电子之间的关联效应。
计算结果表明,对于Xe2+的4d-2DCH态,CAD过程具有不可忽视的分支比(BR)。通过对每个初始能级到各种末态组态的衰变速率进行求和和分析,发现CAD的贡献是普遍存在的。例如,对于之前提到的9号能级,其CAD分支比达到4.08%,是所有能级中最高的。即使是CAD贡献最小的1号能级,其BR也有1.28%。对所有9个能级的CAD分支比进行统计平均,得到的平均值约为1.93%。这一理论预测与最近的实验测量值(2% ± 1%)表现出非常好的一致性,有力地支持了理论计算的可靠性。
进一步分析CAD的具体通道发现,主要的末态组态并非Xe3+的基态(4d105s25p3),而是一些激发组态,例如4d105s15p4、4d105p46d1和4d105s25p25d1等。这些CAD通道产生的俄歇电子能量通常高于40 eV,与正常俄歇通道在俄歇电子能谱(AES)上形成可区分的结构。例如,对于9号能级,衰变到4d105s15p4组态的CAD通道贡献了约33%的总CAD速率,而到4d105p46d1组态的通道贡献了约36%。
Xe2+中CAD过程之所以显著,其根本原因在于强烈的电子关联。这种关联体现在两个方面:角关联和径向关联。径向关联可以通过比较不同轨道的径向波函数来直观理解。分析显示,在Xe2+中,4d内壳层轨道的径向波函数与许多价电子轨道(如4f、5d、5f、6s、6p、6d、6f等)的波函数存在显著的空间重叠。这种强烈的空间重叠极大地增强了多电子跃迁过程的矩阵元,使得CAD这类在轻原子或浅内壳层中通常可以忽略的过程,在Xe的4d内壳层变得非常重要。
作为对比,在氩(Ar)的2p-2DCH态中,实验和理论计算均表明其CAD分支比仅为约0.1%量级,比Xe2+4d-2态小一个数量级。这主要是因为Ar的2p轨道更局域,与价电子轨道的空间重叠相对较弱,导致电子关联效应,特别是对CAD有贡献的高阶关联效应,远不如在重元素氙中显著。
传统的俄歇电子能谱分析通常侧重于正常的俄歇衰变通道。本研究结果表明,对于像氙这样的重元素的双内壳层空穴态,CAD过程贡献了约2%的衰变概率,这是一个必须考虑的因素。忽略CAD不仅会导致对总衰变速率的高估或低估,还可能错误地指认AES中的某些谱峰,从而对电子结构的解释产生偏差。
这项研究对理解在强X射线源(如X射线自由电子激光,XFEL)照射下物质中产生的多重电离态的弛豫动力学具有重要意义。在这些极端条件下,DCH态甚至更高阶的空穴态会被高效地产生。其衰变路径,包括CAD等复杂过程,直接影响最终产生的离子电荷态分布和发射的电子/光子谱。因此,将CAD纳入理论模型对于准确模拟和解释相关实验观测至关重要。
本研究通过高精度的相对论多组态计算,系统地研究了Xe2+离子4d-2双内壳层空穴态的俄歇衰变,首次定量揭示了集体俄歇衰变通道的显著贡献(平均分支比~2%)。研究明确了CAD的主要末态通道,并将其显著的物理根源归结于4d轨道与众多价电子轨道之间强烈的径向关联效应。这一发现修正了对重元素双空穴态衰变行为的传统认识,凸显了电子关联在多重电离过程中的核心作用。
该工作表明,在分析重元素和复杂体系的俄歇电子能谱时,必须超越单电子图像,充分考虑多电子效应。集体俄歇衰变等协同过程不仅是基本的原子物理现象,也为探测原子、分子乃至凝聚态体系中的电子关联提供了一个灵敏的探针。未来的研究可以扩展到其他重元素、分子体系或固体环境中的多重内壳层空穴态,进一步探索CAD在不同条件下的表现和规律,从而更深入地理解多电子关联的普遍性和多样性。
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