上颌磨牙牙根与上颌窦底位置关系及相关黏膜增厚的研究

为探究上颌磨牙牙根与窦底位置关系，研究人员用 CBCT 对比研究，发现相关重要关联，具临床意义。

　　利用锥形束计算机断层扫描（CBCT），研究人员对比了存在和不存在牙源性相关黏膜增厚（MT）的受试者上颌磨牙牙根与上颌窦底的水平和垂直位置关系。研究人员对 330 名受试者的 CBCT 图像进行评估，观察牙源性相关 MT 情况，同时研究并分类上颌磨牙牙根与上颌窦底的水平和垂直位置关系。采用 Pearson 卡方检验和 Fisher 精确检验进行统计学比较，显著性水平设定为 0.05。在水平关系中，“BP”（即上颌窦底最低点位于颊根和腭根之间）在上颌第一和第二磨牙中最为常见。在垂直关系方面，“2b” 型（即根尖与上颌窦底接触但未使窦底抬高）最为常见。研究发现，MT 与上颌第一磨牙水平关系类型 “B”（即上颌窦底最低点位于颊根颊侧）存在显著相关性（右侧p =0.009，左侧p =0.028）。然而，垂直位置与 MT 之间未观察到显著关联。当上颌窦底位于上颌第一磨牙牙根颊侧时，更易出现牙源性相关 MT。因此，在上颌后部进行手术和牙髓治疗时，对于颊侧位置的上颌窦需格外谨慎，以避免引发牙源性鼻窦炎。