银基低辐射(low - e)涂层频率选择表面(FSS)微结构图案化:激光烧蚀与光刻技术开启通信新视野

【字体: 时间:2025年05月08日 来源:Applied Surface Science Advances 7.5

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  低辐射(low - e)涂层会衰减微波和无线电信号,影响通信。研究人员对 low - e 涂层进行频率选择表面(FSS)图案化研究。结果显示,激光烧蚀和光刻技术可降低信号衰减,且对隔热能力影响小。该研究使 low - e 涂层更适用于现代通信需求。

  在当今建筑和汽车领域,节能成为关键追求,低辐射(low - e)窗户凭借其出色的隔热性能脱颖而出。low - e 窗户的核心是玻璃上的纳米多层涂层,由金属(M)和电介质(D)层以多种 D/M/D 配置叠加而成。其中,金属层(如 Ag、Au 或 Cu)负责提供低发射率并反射红外线(IR),电介质层(如 TiO?、SnO?、SiO?)则保护金属层并增强可见光透射,还有极薄的阻挡层防止金属层氧化和腐蚀。然而,low - e 涂层的金属层虽有诸多优势,却带来了一个麻烦:它像一个信号 “阻挡器”,严重衰减微波和无线电信号,如移动电信信号、Wi - Fi 和 5G 信号,在车辆配备金属基 low - e 窗户时,这种信号阻挡问题更为突出,严重影响车内的通信体验。
为了打破这一通信阻碍,来自未知研究机构的研究人员踏上探索之旅,开展了一项关于在银基 low - e 涂层上进行频率选择表面(FSS)微结构图案化的研究,相关成果发表在《Applied Surface Science Advances》。FSS 是一种在表面创建的二维周期性图案,能像 “信号筛选器” 一样过滤特定频率的入射电磁波。研究人员期望通过在 low - e 涂层的导电金属层中构建 FSS 结构,让通信信号顺利穿透,同时尽量不影响 low - e 涂层的隔热等原有性能。

研究人员为开展此项研究,主要运用了以下关键技术方法:首先是制备 low - e 涂层,选用刚性聚碳酸酯(PC)作为衬底,通过定制的在线磁控溅射系统沉积 TiO?、NiCr、Ag 和 SiO?等多层,再用浸涂机涂覆硬涂层树脂 MP101。接着进行 FSS 图案化处理,采用激光烧蚀和光刻技术在 Ag 层蚀刻 FSS 六边形贴片图案。最后利用多种仪器对样品进行材料表征,如用紫外 - 可见 - 近红外(UV - vis - NIR)分光光度计分析光学性能,用汽车天线罩测试仪测量信号衰减等。

在研究结果部分,研究人员首先对光学性能、发射率和衰减进行了分析。研究发现,图案化线宽越宽,去除的涂层面积越大,对光学性能和发射率影响越大。例如,原始 low - e 涂层的 IR 阻挡光(BIR)为 70%,可见光透射率(TVIS)为 64% ,经 FSS 图案化后,TVIS 受影响较小,但 BIR 在线宽 50μm 时降至 54% ,线宽 5μm 时为 65% 。发射率也随线宽变化,原始涂层发射率为 0.04,光刻后升至 0.13,激光烧蚀后为 0.26。在信号衰减方面,原始 low - e 涂层衰减均值达 30dB,而激光烧蚀和光刻处理后的样品衰减分别降至 1.0dB 和 5.7dB。不过,光刻图案化表面因线宽更细,衰减略高,这可能与电容耦合或信号隧穿有关。同时,研究人员还发现较细线宽的图案肉眼几乎不可见,更适合建筑或汽车应用,且光刻图案质量更优,边缘锐利。

其次,在形态学方面,通过扫描电子显微镜 - 能量色散 X 射线光谱仪(SEM - EDX)分析发现,激光烧蚀区域中心和边缘有不同元素分布特征,中心部分 Ag 和 NiCr 完全被去除,边缘有纳米岛形成;光刻区域则完全去除了 Ag 膜,对 TiO?和 NiCr 层影响极小,且两种方法都未损坏 PC 衬底。

最后,在耐久性方面,经 Bayer 和 Steel Wool 测试,光刻图案化样品耐磨性更好,激光烧蚀样品因边缘粗糙,磨损后 haze 值增加更明显。但两种方法处理后的样品附着力都很好,等级均为 5B。

研究结论和讨论部分指出,该研究对比了激光烧蚀和光刻两种 FSS 图案化方法在 low - e 涂层上的应用。在 Ag 层创建 FSS 图案可大幅降低 5G 信号衰减,同时保持光学参数基本稳定。较细线宽能更好地保留 IR 阻挡能力,但会因电容耦合使信号衰减略有增加。激光烧蚀成本低、速度快,但有材料堆积问题;光刻图案质量高、不影响其他层,但对环境要求高。未来进一步优化光刻技术和激光图案化参数,有望开发出高效、坚固且对电信信号透明的 low - e 涂层,还为使用不同聚合物基衬底(如柔性 PC、PET 或 PEN 薄膜)提供了可能,这对于推动建筑和汽车领域的通信技术发展意义重大,让 low - e 窗户在节能的同时,不再成为通信的阻碍,为人们带来更舒适、便捷的生活体验。

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