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氨辅助低沸点有机-水共溶剂剥离石墨烯:一种易去除添加剂的高效稳定制备策略
【字体: 大 中 小 】 时间:2025年05月24日 来源:Communications Chemistry 5.9
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为解决石墨烯液相剥离(LPE)中高沸点溶剂难去除、传统表面活性剂残留等问题,研究人员提出以氨(NH3)为易挥发添加剂,结合低沸点有机-水共溶剂(如异丙醇-水),实现石墨烯浓度提升2个数量级(达~180 mg·L-1),且产物长期稳定。该策略为绿色高效制备高质量石墨烯纳米片提供了新思路。
石墨烯因其独特的电学、力学和化学性质,在柔性电子、能源存储和生物医学等领域展现出巨大潜力。然而,其规模化制备仍面临挑战:传统液相剥离(Liquid Phase Exfoliation, LPE)依赖高沸点有机溶剂(如NMP、DMF)或难去除表面活性剂,不仅工艺复杂,还可能引入有害残留。如何通过绿色、高效的方法获得高浓度且稳定的石墨烯分散液,成为研究者亟需解决的难题。
针对这一问题,来自奥地利的研究团队(通讯作者Bernhard C. Bayer)在《Communications Chemistry》发表了一项创新研究。他们提出了一种简单而高效的石墨烯剥离策略:以低沸点有机-水共溶剂(如异丙醇-水)为介质,加入微量氨(NH3)作为易挥发添加剂。通过系统优化溶剂比例和NH3浓度,团队成功将石墨烯剥离浓度提升至~180 mg·L-1,媲美传统高沸点溶剂的性能,同时避免了难去除残留物的困扰。
关键技术方法
研究采用超声波辅助液相剥离技术,以不同比例有机-水共溶剂(如IPA-H2O)为介质,加入NH3(5–500 mmol·L-1)后对石墨进行6小时超声处理。通过离心分离和UV-Vis光谱定量分析石墨烯浓度,并结合TEM(透射电镜)、AFM(原子力显微镜)和XPS(X射线光电子能谱)表征纳米片形貌与化学状态。
研究结果
NH3的增效作用:
在50%有机溶剂-水混合体系中(如IPA-H2O),添加50 mmol·L-1 NH3可使石墨烯浓度提升100倍,达到~180 mg·L-1,而单纯共溶剂或NH3单独使用效果有限。
溶剂表面张力匹配:
最佳剥离效果出现在有机溶剂(表面张力~20–25 mN·m-1)与水(72.8 mN·m-1)的等比例混合体系,其复合表面张力接近石墨(~40 mN·m-1),有利于剥离和稳定分散。
纳米片质量与稳定性:
TEM和AFM显示,所得石墨烯纳米片厚度为1–10 nm(3–30层),横向尺寸达1–3 μm,且SAED(选区电子衍射)证实其结晶质量优异。XPS证实NH3可通过简单干燥去除,无残留。
普适性验证:
该策略适用于多种有机溶剂(如甲醇、四氢呋喃等),且对不同来源石墨原料(如天然石墨与合成石墨)均有效。
结论与意义
这项研究通过NH3辅助的低沸点共溶剂剥离,实现了石墨烯的高效、绿色制备。NH3的静电稳定作用(Zeta电位~-28 mV)与“楔形效应”协同抑制纳米片团聚,而其高挥发性避免了传统表面活性剂的残留问题。这一成果为石墨烯在印刷电子、复合材料和能源器件中的规模化应用提供了更安全、经济的解决方案,同时为其他二维材料的液相剥离提供了新思路。
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