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CdTe掺杂驱动的能带工程与化学键调控协同提升CuGaTe2 热电性能研究
【字体: 大 中 小 】 时间:2025年06月06日 来源:Journal of Materiomics 8.4
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本研究针对CuGaTe2 热电材料固有高电阻率和热导率的问题,通过CdTe掺杂实现能带工程(band engineering)与化学键调控的协同策略。研究人员发现Cd占据Ga位点可缩小带隙并提升费米能级附近态密度,使功率因子(PF)达1359 μW·m–1 K–2 ;同时通过声学-光学声子"避交叉"效应和三维缺陷网络将晶格热导率(κL )降至0.81 W·m–1 K–1 ,最终在823 K获得zT=1.05的突破性性能,为设计高性能热电材料提供新范式。
在全球能源转型与碳中和背景下,热电材料因其能将废热直接转化为电能而备受关注。其中,三元黄铜矿化合物CuGaTe2
虽具有高塞贝克系数(Seebeck coefficient),但受限于本征高电阻率和热导率,其热电优值(zT)长期难以突破1.0。这一瓶颈源于电声输运参数的强耦合性——提升载流子浓度(nH
)往往导致塞贝克系数(S)下降,而降低晶格热导率(κL
)又可能恶化电导率(σ)。以往研究多聚焦单一参数优化,如通过Mn/Zn掺杂提升nH
或Ag/In掺杂降低κL
,但鲜有实现电热协同调控的突破性方案。
针对这一挑战,中国的研究团队创新性地提出CdTe掺杂驱动的协同策略。通过第一性原理计算结合实验验证,发现Cd优先占据Ga位点可同时实现能带结构调控与化学键弱化:带隙(bandgap)缩小使nH
提升至7.71×1019
cm–3
,而费米能级附近态密度(DOS)增加维持了高有效质量(m*
),最终获得1359 μW·m–1
K–2
的创纪录功率因子(PF)。微观机制上,Cd引入引发声学-光学声子"避交叉"效应(avoided crossing),使声子群速度(vg
)降低6%,同时电子局域函数(ELF)和晶体轨道哈密顿布居(COHP)分析显示Cu-Cd键强度较Cu-Ga键显著减弱,格临爱森参数(γ)从2.83增至2.91。透射电镜(TEM)更揭示出由点缺陷、位错和堆垛 faults构成的三维缺陷网络,使κL
降至0.81 W·m–1
K–1
。
关键实验技术
研究采用固相熔融法合成(CuGaTe2
)1–x
(2CdTe)x
系列样品,通过火花等离子烧结(SPS)致密化。结合维也纳第一性原理计算软件包(VASP)进行能带/声子谱计算,利用电子局域函数(ELF)和晶体轨道哈密顿布居(COHP)分析化学键演变。采用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)表征微观结构,通过热电性能测试系统测量电输运参数,激光闪光法测定热扩散系数。
3. Results and discussion
能带工程与电输运优化
第一性原理计算显示Cd掺杂使CuGaTe2
带隙从1.2 eV缩至0.8 eV,费米能级进入价带诱导p型导电。态密度(DOS)在费米能级附近增加50%,实现nH
与m*
的协同优化。实验测得x=0.0025样品在823 K获得PF=1359 μW·m–1
K–2
,较未掺杂样提升300%。
化学键调控与热输运抑制
ELF显示Cd周围电子局域性减弱,COHP定量证实Cu-Cd键ICOHP值从Cu-Ga键的-0.02981 eV升至-0.00011 eV。声子谱分析发现Cd掺杂使声学支与光学支分离,平均声速(va
)从2210 m/s降至2086 m/s,德拜温度(θD
)降低7.5%。
微观结构表征
TEM观察到0.361 nm的(112)晶面间距扩展(未掺杂样为0.353 nm),证实Cd引起晶格畸变。几何相位分析(GPA)显示位错区域应变场达5%,三维缺陷网络使κL
降幅达60%。
4. Conclusions
该研究通过CdTe掺杂实现能带工程与化学键调控的分子层面耦合:(1) Cd占据Ga位点同时优化nH
与m*
,突破PF的"跷跷板效应";(2) 化学键弱化与缺陷网络协同抑制κL
,首次在CuGaTe2
体系实现zT>1.0。这项工作发表于《Journal of Materiomics》,为设计"电声解耦"热电材料提供了普适性策略,对开发中温区(500-900 K)废热回收器件具有重要指导价值。
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