Ga2 O3 多相稳定性与综合性能研究:第三代半导体材料的新视角

【字体: 时间:2025年06月13日 来源:Materials Science in Semiconductor Processing 4.2

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  本文针对Ga2 O3 半导体材料相稳定性与性能不明的关键问题,通过第一性原理系统研究了α、β、γ、δ、ε五种相的力学、电子及热力学性质。研究发现α-Ga2 O3 具有最优的机械强度与带隙宽度,β相则展现最佳热稳定性,而γ相存在动力学不稳定性。该研究为第三代半导体材料的应用选择提供了重要理论依据。

  

在追求高效能电子器件的浪潮中,宽禁带半导体材料成为突破传统硅基技术瓶颈的关键。其中,氧化镓(Ga2
O3
)因其8 MV/cm的高击穿电场和4.9 eV的宽禁带特性备受瞩目,被誉为第三代半导体中的"黑马"。然而,这种材料存在一个鲜为人知的软肋——其五种晶体相的稳定性与性能差异长期笼罩在迷雾中。特别是除β相外,其他四种相(α、γ、δ、ε)的力学性能和热稳定性数据几乎空白,这严重制约了材料在高压、高温场景下的精准应用。

针对这一科学难题,铂族金属综合利用国家重点实验室的研究团队在《Materials Science in Semiconductor Processing》发表了一项突破性研究。通过第一性原理计算(DFT),团队系统分析了五种Ga2
O3
相的稳定性、力学性能、电子结构和热力学行为。研究采用维也纳从头算模拟软件包(VASP)进行结构优化,通过声子谱分析动力学稳定性,并利用准谐德拜模型计算热力学参数。

相稳定性分析
形成焓计算揭示所有相在热力学上稳定(ΔH<0),排序为α<><><><>2
O3
(Fd-3m)存在虚频,表明其动力学不稳定性,这解释了实验中γ相难以稳定存在的原因。

力学性能突破
α相展现出卓越的机械性能:体积模量(B)达211 GPa,剪切模量(G)为132 GPa,均显著高于β相(B=158 GPa,G=92 GPa)。其维氏硬度(Hv
=18.2 GPa)比β相高35%,这得益于其紧密堆积的菱方结构(R-3c)。

电子结构特征
α相带隙(4.92 eV)比β相(4.62 eV)宽6.5%,源于O-2p态在费米能级与导带间形成的宽能谷。δ相因立方对称性(Ia-3)导致带隙最小(3.8 eV),这为光电器件的波长选择提供了理论指导。

热力学行为
德拜温度计算显示β相(θD
=576 K)热稳定性最优,而α相(θD
=512 K)在高温下可能发生相变。值得注意的是,ε相在300K时的热容(Cv
=108 J/mol·K)最适合热管理应用。

这项研究首次建立了Ga2
O3
多相性能数据库,为半导体器件设计提供了关键指导:α相适用于高机械强度需求的功率器件,β相适合高温环境,而ε相在柔性电子领域潜力巨大。研究还纠正了γ相可制备性的认知误区,为后续实验研究节省了大量试错成本。该成果不仅推动了宽禁带半导体材料的精准应用,其多尺度计算方法也为其他复杂氧化物研究提供了范式。

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