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扫描电镜中背散射电子系数η(Z,EB )与探测器响应函数的精确建模及其对材料对比度的影响
【字体: 大 中 小 】 时间:2025年06月18日 来源:Ultramicroscopy 2.1
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本研究针对扫描电镜(SEM)中背散射电子(BSE)系数η(Z,EB )的精确计算难题,通过建立η、平均背散射能量系数ε及探测器响应函数F的 empirical 表达式,解决了传统公式在低能区(EB <5 keV)的局限性,并揭示了探测器响应函数对材料对比度的关键影响,为SEM图像定量分析提供了高精度工具。
在材料科学和显微成像领域,扫描电子显微镜(SEM)的背散射电子(BSE)成像是分析样品成分和结构的重要手段。然而,长期以来,背散射电子系数η(反映电子与材料相互作用的概率)的计算存在显著局限:经典公式要么忽略初级电子能量EB
的影响,要么仅适用于高能区(EB
5 keV)。此外,探测器响应函数(F)对信号强度IS
的调制作用长期未被充分量化,尤其在低电压模式下(EB
<5 keV),这导致材料对比度的解释存在偏差。
为解决这些问题,研究人员通过系统实验与建模,建立了η(Z,EB
)、ε和F的 empirical 表达式,覆盖1–30 keV的宽能区。研究发现,η随EB
的变化呈现原子序数(Z)依赖性:Z>33时η轻微上升,Z<33时下降,而Z≈33时几乎不变。这一规律通过引入对数修正项得以精确描述。研究还揭示了半导体探测器(如硅基p-n结)的响应函数F对信号IS
的显著影响,其阈值能量Eth
≈0.75 keV的特性在低能区尤为关键。
关键技术方法
研究采用商用SEM配备的半导体/闪烁体BSE探测器,通过EBIC(电子诱导电流)模型计算信号IS
,结合实验数据拟合η(Z,EB
)表达式,并与微通道板(MCP)探测器性能对比。
研究结果
η(Z,EB
)的 empirical 表达式
通过归一化对数修正项,提出η的计算公式,其精度优于既往研究,尤其在低能区(EB
<5 keV)表现突出。
探测器响应函数F的作用
半导体探测器的F通过EBIC模型量化,显示低能BSE信号受Eth
限制,而高能区则依赖ηD
(探测器材料的BSE系数)。
材料对比度的三重机制
对比传统仅基于η的对比度C1
,研究提出包含F影响的C2
和C3
模型,证明探测器特性可显著增强Z差异的识别灵敏度。
结论与意义
该研究为SEM用户提供了高精度的η(Z,EB
)计算工具,并首次系统阐明了探测器响应函数在材料对比度形成中的核心作用。成果对低电压SEM成像、多组分材料分析及探测器设计具有指导价值,相关模型已发表于《Ultramicroscopy》。研究团队特别强调,未来需进一步探索F的能谱依赖性以优化定量分析。
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