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Cr3+/Fe3+共掺杂二维SnS2纳米片的可调磁开关特性与电子结构研究
【字体: 大 中 小 】 时间:2025年06月20日 来源:Materials Science in Semiconductor Processing 4.2
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本研究通过水热法合成Cr3+/Fe3+共掺杂SnS2纳米片(Sn1-xCrx/2Fex/2S2),揭示了其晶格膨胀、直接带隙(2.1-2.37 eV)及室温铁磁性(饱和磁化强度34.3 memu/g)。通过XRD、MEM(最大熵方法)和VSM(振动样品磁强计)等技术,证实了掺杂诱导的电荷分离增强和自旋极化特性,为自旋电子学(spintronics)和光催化应用提供了新材料。
二维材料领域近年来因其在电子、光学和磁学方面的独特性质备受关注,尤其是过渡金属二硫属化物(TMDs)如SnS2。这类材料具有层状结构和可调带隙,但纯SnS2的固有抗磁性限制了其在自旋电子学中的应用。如何通过掺杂实现室温铁磁性(RTFM)并保持其光电性能,成为材料科学的关键挑战。
为解决这一问题,来自印度马杜赖卡马拉杰大学等机构的研究人员M. Charles Robert和N. Pavithra通过水热法合成了Cr3+/Fe3+共掺杂SnS2纳米片(Sn1-xCrx/2Fex/2S2,x=0.03-0.09),系统研究了其结构-性能关系。研究通过X射线衍射(XRD)确认了六方相结构,发现掺杂导致晶格膨胀(2θ角左移)和(100)/(101)晶面择优取向。电子顺磁共振(EPR)揭示了Fe3+的间隙位贡献,而紫外可见光谱显示直接带隙从2.1 eV(x=0.03)增至2.37 eV(x=0.09)。值得注意的是,x=0.06样品表现出最优磁性能:饱和磁化强度(Ms)达34.3 memu/g,矫顽力(Hc)为124.74 Oe,归因于Fe:3d-S:3p-Cr:3d耦合链。最大熵方法(MEM)分析进一步揭示了层间电荷积累与磁性的关联。该成果发表于《Materials Science in Semiconductor Processing》,为多功能器件设计提供了新思路。
关键技术包括:水热合成法、XRD结构精修、扫描电子显微镜(SEM)/高分辨透射电镜(HRTEM)形貌表征、振动样品磁强计(VSM)磁学测试、紫外可见漫反射光谱(DRS)和光致发光(PL)光谱分析。
Sample preparation and growth mechanism
通过水热法以SnCl4·5H2O、FeCl2·4H2O和CrCl2为前驱体,在180℃反应24小时制备纳米片,硫脲作为硫源。
XRD data analysis
XRD精修证实所有样品保持六方结构(空间群P3m1),掺杂引起晶格参数a从3.6486 ?增至3.6521 ?(x=0.09),归因于Fe3+/Cr3+(0.64/0.62 ?)对Sn4+(0.69 ?)的替代。
Conclusion
研究证实Cr3+/Fe3+共掺杂可协同调控SnS2的磁电性能:x=0.06样品因最佳掺杂浓度实现强铁磁耦合,而带隙调控使其兼具光催化活性。MEM分析首次揭示了电荷密度分布与磁性的定量关系,为设计自旋-光子集成器件提供了理论依据。
该工作的创新性在于:首次系统研究Cr/Fe共掺杂SnS2的电子结构-磁性关联,通过MEM阐明间隙电荷的关键作用。其多学科交叉特性(材料化学、凝聚态物理、器件工程)为开发室温自旋阀、磁光存储器等器件开辟了新途径。
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