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基于聚合物金属酞菁衍生的金属/金刚石复合颗粒:界面优化与热管理性能提升
【字体: 大 中 小 】 时间:2025年06月28日 来源:Journal of Alloys and Compounds 5.8
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为应对高功率电子器件散热需求,研究人员通过聚合物金属酞菁(MPPc)前驱体涂层技术,开发了界面结合强度高、组分可调的金属/金刚石(M/Dia)复合材料。该材料通过碳化形成无缺陷的杂化碳中间层,显著提升热导率,并成功应用于环氧模塑料(EMC)中,为高效热管理提供了新方案。
在人工智能与机器学习技术飞速发展的今天,高算力硬件如GPU和NPU的广泛应用带来了严峻的散热挑战。传统环氧模塑料(EMC)中使用的Al2O3和SiO2填料热导率不足(分别约30和1.5 W·m-1·K-1),而金刚石(Dia)虽具有超高热导率(1000-2200 W·m-1·K-1),但其与金属的界面润湿性差导致复合材料(M/Dia)性能受限。针对这一难题,首尔大学的研究团队创新性地采用聚合物金属酞菁(MPPc)作为前驱体,通过π-π相互作用在Dia表面形成均匀涂层,经碳化后构建出无孔隙的杂化碳中间层,成功制备出36种组分可调的M/Dia复合材料,相关成果发表于《Journal of Alloys and Compounds》。
研究团队主要运用了MPPc原位聚合涂层技术和可控碳化工艺。通过调节MPPc的金属中心(Cu/Ni/Fe)和连接基团,结合不同碳化条件,实现对中间层厚度和石墨化程度的精确调控。
材料与方法
MPPc@Dia通过金属酞菁单体在金刚石表面聚合形成,碳化过程中金属组分嵌入多层无定形碳中,形成紧密结合的杂化界面。
结果与讨论
该研究不仅解决了M/Dia界面结合的行业难题,其独特的MPPc衍生策略更为功能化碳基复合材料的设计提供了新范式。通过组分与结构的协同调控,这类材料在5G芯片、功率模块等高温电子器件中展现出广阔应用前景。
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