下颌第一磨牙远中根管牙本质厚度与根管口形态的Micro-CT评估：维度影响及沟槽深度的相关性研究

来自某研究团队的研究人员通过Micro-CT成像技术，探讨了下颌第一磨牙远中根管口二维形态参数（长径、短径、周长、面积、圆度等）与牙本质厚度及发育性沟槽深度的关联。研究发现，根管口长径和周长与牙本质厚度呈显著正相关（r=0.38/0.35, p<0.05），回归模型解释42%变异（R2=0.42），而沟槽深度与形态参数无显著关联。该研究为根管治疗中个性化预备方案提供了重要依据，尤其对长椭圆形根管口的临床操作具有指导意义。

　　

这项研究利用高精度显微计算机断层扫描(Micro-CT)技术，对100颗具有Vertucci I型解剖结构的离体下颌第一磨牙远中根管展开精密测量。通过量化根管口的二维形态参数——包括长径(major diameter)、短径(minor diameter)、周长(perimeter)、面积(area)等7项指标，结合6mm范围内每毫米间隔的牙本质厚度(dentin thickness)和发育沟(sulcus depth)数据，揭示了令人惊喜的发现：

那些拥有"大嘴巴"特征的根管口（长径和周长较大）往往伴随着更厚实的"牙本质铠甲"，尤其在远中根的近中侧表现突出（相关系数r=0.38/0.35，p<0.05）。就像树木年轮记录生长历程，根管口面积也以r=0.29的相关系数诉说着与牙本质厚度的正相关故事。不过，神秘的发育沟深度却像个独行侠，与所有形态参数都保持着若即若离的关系。

统计分析舞台上的主角当属多元线性回归模型——长径和周长这对黄金搭档联手解释了42%的牙本质厚度变异（R²=0.42）。在根管口形态的"选美大赛"中，修长的长椭圆形(long oval)以58%的占比夺冠，经典椭圆形(oval)以28%屈居亚军。更有趣的是，牙本质厚度在不同方位上演着"变脸"戏码，近中侧的发育沟始终保持着深度优势（p<0.05）。

这些发现如同为牙科医生配备了一副"形态-厚度预测眼镜"，特别在桩道预备(post space preparation)时，对长椭圆形或扁平根管口的病例需要"量体裁衣"，才能避免根管穿孔和折裂的风险。而发育沟这个"高冷参数"的独立表现，则暗示其在预测根管形态方面的作用可能相当有限。