前额叶皮层nNOS阳性神经元通过pPVT-mPFC神经环路调控抑郁行为的分子机制

来自中国的研究团队针对抑郁症的神经机制展开研究，通过化学遗传学手段发现内侧前额叶皮层(mPFC)中表达神经元型一氧化氮合酶(nNOS)的神经元是调控抑郁行为的关键细胞群。该团队揭示后部室旁丘脑核(pPVT)通过兴奋性投射激活mPFC nNOS神经元，进而促进一氧化氮(NO)依赖的CDK5亚硝基化修饰，为抑郁症治疗提供了新靶点。

　　

抑郁症作为常见精神疾病，其发病机制犹如未解之谜。科学家们将目光聚焦在大脑内侧前额叶皮层(mPFC)中那些携带神经元型一氧化氮合酶(nNOS)的特殊神经元上。通过精巧的化学遗传学操控技术，研究者发现这群神经元竟是操控抑郁行为的"总开关"。

电生理实验揭开惊人发现：来自后部室旁丘脑核(pPVT)的神经纤维像电缆般精准连接mPFC的nNOS神经元。当这些来自pPVT的兴奋性信号增强时，实验小鼠就会表现出典型的抑郁样行为。更妙的是，研究者捕捉到nNOS神经元被激活后会释放一氧化氮(NO)分子，这些活泼的小分子会给细胞周期蛋白依赖性激酶5(CDK5)戴上"亚硝基化"的化学修饰帽子，从而改变其功能。

这项研究不仅绘制出pPVT→mPFC nNOS神经元的抑郁调控环路图谱，更揭示了NO-CDK5^{S-nitrosylation}这一精巧的分子开关，为开发新型抗抑郁药物提供了双重靶点——既可从环路层面干预pPVT-mPFC投射，也能在分子层面调控CDK5的翻译后修饰。