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卤素掺杂碳点/SiO2复合材料的超长室温磷光特性及其在防伪加密领域的应用
【字体: 大 中 小 】 时间:2025年07月09日 来源:Materials Today Chemistry 6.7
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针对传统室温磷光(RTP)材料寿命短、稳定性差等问题,研究人员通过溶胶-热解两步法制备了卤素掺杂碳点/SiO2复合材料(RTP X-CDs/SiO2)。其中F掺杂样品展现出1.28 s超长寿命、19.76%量子产率及优异的环境稳定性,并成功制备出柔性疏水磷光薄膜,为高级光学防伪和信息加密提供了新材料。
在光学材料领域,室温磷光(Room Temperature Phosphorescence, RTP)材料因其独特的延迟发光特性,在应急标识、防伪加密等领域展现出巨大潜力。然而传统有机RTP材料普遍面临寿命短、易猝灭的瓶颈,而稀土配合物又存在成本高、毒性大等问题。碳点(Carbon Dots, CDs)作为新兴纳米发光材料,虽具有低毒、可调发光等优势,但其磷光性能易受环境干扰。如何通过材料设计实现CDs基材料的长寿命、高稳定性RTP,成为当前研究的重点挑战。
三峡实验室的研究团队创新性地提出卤素掺杂策略,通过溶胶-热解两步法制备出系列卤素掺杂碳点/SiO2复合材料(RTP X-CDs/SiO2)。研究首先采用柠檬酸(CA)和氨基硅烷(APTES)为前驱体,通过200℃溶剂热反应12小时合成荧光X-CDs/SiO2,再经高温煅烧获得最终产物。技术关键包括:利用卤素原子(F/Cl/Br/I)调控系间窜越(ISC)过程,通过SiO2基质刚性网络稳定三重态激子,并系统考察了不同卤素对材料形貌及磷光性能的影响规律。
Results and discussion部分揭示:所有卤素掺杂样品均表现出优于未掺杂样品(0.96 s)的磷光寿命,其中F掺杂的RTP F-CDs/SiO2综合性能最优,具有502 nm发射波长、1.28 s寿命和19.76%量子产率。机理研究表明,F原子通过增强n-π*跃迁促进ISC过程,而SiO2基质形成的Si-O网络则有效抑制非辐射跃迁。材料在pH 2-12范围、极性溶剂及温度变化条件下均保持稳定,突破了传统CDs的环境敏感性限制。
Conclusions部分指出,该工作通过将RTP F-CDs/SiO2与硅树脂复合,成功制备出质量分数2.5%-15%的柔性磷光薄膜。薄膜兼具优异疏水性(接触角>100°)和时分辨发光特性,通过设计多层图案实现了动态防伪效果。这项研究为开发长寿命、高稳定性的CDs基RTP材料提供了新思路,推动其在高端防伪、信息加密等领域的实际应用。论文发表于《Materials Today Chemistry》,其创新性体现在:首次系统比较不同卤素对CDs/SiO2磷光性能的调控规律,并实现了材料从粉末到柔性薄膜的形态突破,为CDs基功能材料的产业化应用奠定了重要基础。
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