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BeO陶瓷热释光信号半衰期计算:γ与α/γ辐照下的稳定性与剂量学性能研究
【字体: 大 中 小 】 时间:2025年07月10日 来源:Luminescence 3
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(编辑推荐)本研究通过热释光(TL)技术系统分析了BeO陶瓷(Thermalox 995)在γ和α/γ辐照下的动力学特性,揭示其三个主峰(348±1 K、477±2 K、616±1 K)的活化能(E)与半衰期差异。研究发现α/γ辐照使活化能提升(如峰1从0.76±0.03 eV增至0.81±0.02 eV),且半衰期显著延长(峰2从522年增至2067年)。通过解卷积分析证实477 K峰具有最优线性剂量响应,为BeO在辐射剂量学(TLD)中的精准应用提供关键参数。
BeO陶瓷(Thermalox 995)在γ和α/γ辐照下展现出独特的热释光(TL)特性。其发光曲线包含三个特征峰:348±1 K(峰0)、477±2 K(峰1)和616±1 K(峰2)。γ辐照下活化能分别为0.76±0.03 eV、1.18±0.04 eV和1.11±0.02 eV,而α/γ辐照时略微升高至0.81±0.02 eV、1.22±0.03 eV和1.18±0.01 eV。动力学分析显示峰1的级数接近1.5,其余峰接近一级动力学。半衰期计算表明,γ辐照下峰0-2分别为131秒、1.92年和522年,α/γ辐照下延长至168秒、5.07年和2067年。
BeO因其高热导率(10.6 eV带隙)和组织等效性(有效原子序数7.13)成为辐射剂量学(TLD)的理想材料。然而,其粉末毒性、光敏感性和剂量响应非线性限制了应用。既往研究对第二峰位置存在分歧(586 K vs. 621 K),可能与辐照能量(如6 MeV X射线 vs. 0.06 MeV γ)或加热速率(0.005°C/s vs. 5°C/s)相关。本研究通过Am-241源(α 0.90 mGy/s,γ 3.81 μGy/s)系统探究辐照时间对半衰期的影响。
2.1 热释光测量
使用直径4 mm、厚0.8 mm的BeO圆片(杂质<0.5%),经600°C退火预处理。γ辐照通过1 mm金箔屏蔽α粒子,确保单一辐射类型。TL读数在Harshaw 3500分析仪(5°C/s升温速率)下完成,氮气氛围降低热噪声。
2.2 解卷积分析
采用R包“tgcd”基于广义级动力学(GOK)模型拟合,方程包含活化能(E)、峰温(Tm)和动力学级数(b)。拟合优度通过FOM值(<5%)评估。
2.3 半衰期计算
基于陷阱电荷衰减模型,半衰期t1/2与存储温度(Ts=298 K)和E相关。公式推导显示t1/2∝exp[E/k(1/Ts?1/Tm)],其中k为玻尔兹曼常数。
3.1 发光曲线特征
α/γ辐照的TL强度比γ高85%,但峰位一致(图1)。解卷积显示峰1(477 K)的线性剂量响应最佳(R2=0.99),而峰0(348 K)随辐照时间呈下降趋势(图5)。
3.2 半衰期动态变化
γ辐照下,峰1半衰期从2.1年(11分钟)降至1.7年(19分钟),而峰2从480年增至550年(图6)。α/γ辐照时,峰2半衰期可达2067年,反映陷阱填充机制差异。
3.3 褪色实验验证
峰0的实验半衰期(87-101秒)与理论值(95秒)偏差<10%(表3),证实模型可靠性。
BeO的TL性能强烈依赖辐射类型与剂量。α/γ辐照通过提高陷阱深度(E↑)延长信号稳定性,而477 K峰的线性响应使其成为剂量监测的优选靶点。未来需进一步探究陷阱微观机制以优化材料设计。
(注:全文数据均源自原文实验,未添加外部信息)
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