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一步球磨法制备FeSiBNbCu@Fe3O4基纳米晶软磁复合材料的性能研究及其高频应用探索
【字体: 大 中 小 】 时间:2025年07月19日 来源:Powder Technology 4.5
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为解决高频电力电子器件对低损耗(Pcv)、高磁导率软磁复合材料(SMCs)的迫切需求,研究人员创新性地通过一步球磨法在FeSiBNbCu纳米晶薄片表面构建Fe3O4绝缘涂层。该研究显著降低了涡流损耗(较未涂层样品降低76.5%),同时保持高饱和磁化强度(Ms≥125 emu/g),为新能源汽车充电桩和5G基站等高频场景提供了新型软磁解决方案。
随着宽禁带半导体器件在电力电子领域的普及,对软磁材料提出了更严苛的高频性能要求。传统软磁复合材料(SMCs)虽通过粉末绝缘涂层技术实现了低损耗,但复杂的多步涂层工艺导致生产效率低下、成本高昂。特别是当使用纳米Fe3O4颗粒作为涂层时,其易团聚特性更使得均匀分散成为行业难题。
山东大学材料科学与工程学院的研究团队在《Powder Technology》发表的研究中,开创性地将纳米Fe3O4颗粒直接引入球磨工艺,通过机械力化学作用同步实现FeSiBNbCu非晶带材的粉碎、纳米晶化与表面涂层。该研究采用X射线衍射(XRD)分析相组成,振动样品磁强计(VSM)测试磁性能,并结合扫描电镜(SEM)观察微观形貌,系统探究了不同Fe3O4含量(0-4 wt%)对材料性能的影响。
粉末表征
XRD显示经500℃退火后样品出现α-Fe(Si)纳米晶衍射峰,平均晶粒尺寸为14.3 nm。SEM证实球磨后粉末呈厚度约1-3 μm的薄片状结构,Fe3O4颗粒均匀附着表面。当涂层含量达3 wt%时,粉末电阻率提升至1.74×105 Ω·cm,较未涂层样品提高4个数量级。
磁性能分析
VSM测试显示3 wt% Fe3O4样品在100 kHz下损耗仅310 mW/cm3,较空白组降低76.5%。磁导率在1 MHz仍保持稳定值(μ≈32),这归因于Fe3O4涂层有效抑制了涡流效应。值得注意的是,饱和磁化强度(Ms)始终维持在125 emu/g以上,证明磁性稀释效应得到良好控制。
该研究通过创新的一步球磨工艺,成功解决了纳米颗粒分散与绝缘涂层均匀性的技术矛盾。所制备的SMCs兼具低损耗、高频率稳定性和良好加工特性,特别适用于DC/DC转换器等高频场景。Guibing Shi等研究者提出的工艺路线将传统多步涂层简化为单步完成,生产效率提升300%以上,为5G通信基站和新能源汽车充电设备的电感元件提供了新材料选择。研究还发现过量Fe3O4(>3 wt%)会导致颗粒团聚,反而劣化性能,这为工业化生产提供了关键工艺窗口参数。
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