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综述:局部pH工程对电催化的影响
【字体: 大 中 小 】 时间:2025年07月28日 来源:Current Opinion in Electrochemistry 7.9
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这篇综述深入探讨了铂(Pt)电极/水溶液界面的双电层电容(Cdl)测量与解析的挑战,揭示了Pt(111)在稀HClO4中的反常电容趋势源于界面本征特性,而非测量技术差异(如CV与EIS)。文章强调Hads/OHads吸附伪电容(Cads)对总电容解卷积的干扰,并指出不同Pt晶面(如(100)台阶)的吸附行为差异对多晶Pt电容主导作用,为电催化界面设计提供了关键见解。
铂电极/水溶液界面的双电层结构研究虽经数十年探索,其核心参数——双电层电容(Cdl)的测量仍存在显著争议。以Pt(111)/HClO4为模型体系,文献报道的Cdl值呈现反常趋势:在0.1 mM HClO4 + 0.1 M KClO4中通过电化学阻抗谱(EIS)测得20-65 μF cm?2,而在0.1 mM HClO4 + 5 mM LiClO4中通过循环伏安法(CV)却高达100-200 μF cm?2,与Gouy-Chapman理论预测的浓度依赖性背道而驰。更复杂的是,除Pt(111)在0.40-0.60 VRHE的"双电层窗口"外,其他Pt晶面始终被Hads或OHads覆盖,导致Cdl无法直接测量。
早期研究将Cdl差异归因于CV与EIS的方法学差异,但最新EIS复现实验证实,这种反常是Pt(111)/HClO4界面的本征特性。关键发现包括:
在催化相关条件下,H2O解离产生的Hads/OHads带来显著挑战:
通过系统研究Pt(S)-[n(111)×(110)]和Pt(S)-[n(111)×(100)]台阶电极,发现:
这项工作不仅澄清了长期存在的测量争议,更为理解电催化界面双电层结构建立了新范式,未来需结合原位光谱和理论计算进一步揭示界面溶剂化结构与电容的构效关系。
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