原子层刻蚀技术再生铜催化剂：破解硫中毒难题，推动CO2电解可持续化

研究人员针对过渡金属催化剂易被硫化物（如1-十二烷硫醇）中毒失活的问题，创新性引入半导体领域原子层刻蚀技术（ALE）。通过氧等离子体与甲酸蒸气循环处理，成功恢复铜催化剂CO2还原反应（CO2RR）法拉第效率，表面粗糙度提升进一步优化性能，为减少冲突矿产依赖提供绿色解决方案。

　　

硫化物如同催化剂界的"毒苹果"，当铜(Cu)催化剂遭遇含硫化合物（如1-十二烷硫醇）时，其催化CO₂电解还原(CO₂RR)的能力便会急剧衰退。科学家们从半导体行业借来"分子级手术刀"——原子层刻蚀(ALE)技术，通过氧等离子体轰击联合甲酸蒸气熏蒸的精准操作，不仅清除了催化剂表面的硫毒分子，还意外发现刻蚀过程形成的凹凸表面能进一步提升CO₂转化效率。这项跨界技术让濒临报废的铜催化剂重获新生，既避免了频繁更换催化剂对冲突矿产的依赖，又为碳中和目标提供了可持续的催化解决方案。