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CuS纳米酶生物合成优化与协同抗菌机制解析:从参数调控到分子机理
【字体: 大 中 小 】 时间:2025年08月01日 来源:Journal of Colloid and Interface Science 9.7
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(编辑推荐)本研究通过密度泛函理论(DFT)揭示了MoB2/WB2单层材料作为高效电催化一氧化氮还原反应(NORR)催化剂的新机制,其硼表面表现出-0.16V/-0.08V的超低极限电位,通过σ→px/py和pz→π*的"给电子/反键"机制激活NO分子,为可持续NH3合成提供了新策略。
Highlight
计算模型与方法
采用维也纳从头算软件包(VASP)和投影缀加波方法(PAW),设置500eV截断能进行自旋极化密度泛函理论(DFT)计算。交换关联作用采用广义梯度近似(GGA)下的PBE泛函处理,并引入DFT-D3方法校正范德华力。
MoB2和WB2单层结构稳定性
如图1a所示,这两种单层材料具有六方晶系结构(空间群P6/mmm),每个晶胞含1个过渡金属(Mo/W)原子和2个硼原子。声子色散曲线(图1c)显示所有方向均无虚频,证实其动力学稳定性。
结论
研究表明MoB2和WB2单层材料在电催化NO还原为NH3反应中表现出卓越性能,其硼表面极限电位分别达-0.16V和-0.08V,显著优于已报道的FeB2(-0.53V)和VB2(-0.23V)。通过"给电子/反键"机制阐明了σ→p轨道和p→π*轨道间的电荷定向转移对NO分子激活的关键作用。
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