激光诱导深蚀刻技术优化氢氟酸基蚀刻剂在NXT玻璃加工中的应用研究

本文推荐：本研究通过优化激光诱导深蚀刻（LIDE）技术中氢氟酸（HF）与HNO3的配比（7:3），实现了Corning Lotus? NXT玻璃的高效蚀刻（速率达～850 μm/h，深宽比～19:1），同时保持表面粗糙度RMS值<1 nm。该技术为显示器件（如柔性屏）的精密加工提供了创新解决方案，兼具高蚀刻效率与超光滑表面特性。

　　

Highlight

氢氟酸浓度的影响

本部分研究了HF浓度对康宁NXT玻璃蚀刻的影响。采用图2(a)所示的扫描法，首先用激光束（能量4-9 μJ，重复频率40 kHz，脉冲重叠率20 μm^-1）辐照玻璃样品，随后将改性样品置于不同浓度HF溶液（48 wt%、30 wt%等）中进行蚀刻。

结论

康宁Lotus? NXT玻璃因其优异的高温兼容性和高杨氏模量（Young’s modulus）展现出巨大应用潜力。本研究首次通过LIDE技术，对比了HF-HCl、HF-HNO₃和HF-H₂SO₄三种蚀刻体系的性能。其中HF-HNO₃组合在蚀刻速率和深宽比方面表现最优，为显示器件（如柔性屏）的精密加工提供了创新解决方案。

作者贡献声明

Seunghyun Bang：综述撰写/数据分析/实验设计；Ghulam Asghar：项目指导/数据验证；Juil Hwang：资金支持；Nhu Anh Nguyen：实验协助。

利益冲突声明

作者声明无任何可能影响本研究结果的财务或个人关系。

致谢

本研究由三星显示（Samsung Display Co., Ltd.）和韩国信息通信技术规划评估院（IITP）资助（编号2022-0-01026）。