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溴/氟掺杂石墨烯纳米片的电子-光学特性调控及化学活性增强机制研究
【字体: 大 中 小 】 时间:2025年08月10日 来源:Materials Today Quantum
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本研究通过密度泛函理论(DFT)系统探究Br/F掺杂对石墨烯纳米片(GNFs)的电子结构、光学特性及化学活性的调控机制,发现卤素掺杂可显著降低带隙(最低至1.194 eV)、提升功函数(达4.364 eV)并增强电负性,为开发新型纳米电子器件和传感器提供理论依据。
在二维材料研究领域,石墨烯纳米片(GNFs)因其独特的电子和光学特性备受关注,但本征石墨烯的零带隙特性严重限制了其在半导体器件中的应用。如何通过可控手段调控GNFs的电子结构,成为突破其应用瓶颈的关键科学问题。传统尺寸裁剪和边缘工程虽能诱导量子限域效应,但精确控制带隙仍面临挑战。与此同时,卤素掺杂作为改性石墨烯的有效策略,其原子级作用机制及多参数协同调控规律尚不明确。
University of Sumer物理系的研究团队在《Materials Today Quantum》发表研究,采用密度泛函理论(DFT)结合时间依赖DFT(TD-DFT),系统分析了Br/F单掺杂及共掺杂对C24H12体系七元环GNFs的几何结构、电子特性和光学响应的调控规律。研究通过B3LYP/6-31G基组优化分子构型,计算前沿分子轨道(HOMO/LUMO)、态密度(DOS)和化学活性指数,并采用TD-DFT模拟紫外-近红外吸收光谱。
几何优化显示:卤素掺杂引发显著晶格畸变,Br原子因大半径产生空间位阻,F原子通过强电负性(3.98)诱导电荷重排,使Br2F2-GNFs偶极矩达6.288 Debye。
电子特性调控方面:原始GNFs带隙为4.172 eV,Br/F掺杂通过形成中隙态将带隙降至1.548-1.194 eV,其中Br3F3-GNFs带隙最小。DOS分析表明掺杂使费米能级负移,Br2F2-GNFs功函数提升26.9%至4.364 eV。
化学活性变化:掺杂体系硬度(η)降低50%以上,电负性(μ)和亲电性指数(ω)显著增加,Br2F2-GNFs的ω达13.356 eV,表明电子转移能力增强。
光学特性转变:吸收边红移至近红外区(2253.32 nm),振荡强度(f)提高,HOMO→LUMO跃迁贡献超97%,证实掺杂有效促进电荷转移。
该研究首次阐明Br/F共掺杂GNFs的多尺度调控机制:卤素原子通过协同电子效应(F提供强极化,Br增强轨道杂化)和空间效应,实现带隙精确裁剪(调节幅度达3 eV)与表面极性可控增强。所建立的构效关系为设计高性能纳米光电器件(如近红外探测器、低功函数电极材料)提供新思路,同时拓展了石墨烯在催化、传感等领域的应用场景。特别值得注意的是,通过多原子掺杂产生的非线性效应(如Br3F3体系反常带隙降低),为开发新型量子功能材料开辟了道路。
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