电镀法制备钡/镭薄靶的系统研究及其在225Ac核医学同位素生产中的应用

（编辑推荐）本研究通过电镀法优化226Ra薄靶制备工艺，以natBa为化学同系物，探究电解参数对沉积效率（69±3%）及靶材均质性的影响，为核医学关键同位素225Ac（TAT靶向α疗法）的加速器生产提供关键技术支撑。

　　

Highlight

化学品

实验使用超纯水（18.2 MΩ/m）配制电解液（22 mL），含91%异丙醇（99.99%纯度）、7% 0.1 M HNO₃（含~150 μg ^natBa(NO₃)₂）及2% 0.4 M HNO₃，并加入50 μL ²²³Ra（0.1 M HNO₃）用于放射发光成像分析。²²³Ra通过²²⁷Ac/²²⁷Th/²²³Ra发生器纯化获得（图1），采用双柱（Biorad mini）分离，首柱保留²²⁷Ac/²²⁷Th，次柱富集²²³Ra。

结果与讨论

每组电镀参数独立重复3次，结果重现性良好。靶材通过γ能谱分析，部分样本采用放射发光成像检测（可能破坏表层结构）。

结论

本研究系统评估了电镀参数对靶材质量的影响，最终在标准铝基底上实现沉积效率69±3%的优化工艺：电流密度39.3 mA/cm²、时长35分钟、电解液含9.5 mM HNO₃及91%有机相。