氮离子诱导镱元素M壳层X射线产生截面的实验测量与理论模型验证

来自印度新德里校际加速器中心(IUAC)的研究人员通过卢瑟福背散射(RBS)法测定靶材厚度，系统测量了1.75 MeV和1.5 MeV氮离子轰击镱(Yb)产生的M壳层X射线截面(M XRP)。研究将实验结果与基于ECUSAR/ECPSSR电离模型、狄拉克-哈特里-斯莱特(DHS)模型X射线发射率、荧光产额及科斯特-克朗尼格(CK)跃迁概率的理论值进行对比，为重离子与物质相互作用机制研究提供了重要实验依据。

　　

采用1.75 MeV和1.5 MeV能量的氮离子束轰击镱(Yb)靶材，实验团队精确测定了M壳层X射线产生截面(M XRP)。靶材厚度测量依托印度新德里校际加速器中心(IUAC)的卢瑟福背散射(RBS)技术完成。为验证理论模型的可靠性，实验数据与两套理论预测进行了对比：其一是基于电子碰撞近似下的ECUSAR和ECPSSR模型计算的氮离子电离截面，其二是结合狄拉克-哈特里-斯莱特(DHS)理论框架下的X射线发射率、荧光产额以及科斯特-克朗尼格(CK)跃迁概率所推导的预测值。这项研究为理解高能离子与稀土元素相互作用时的内壳层电离机制提供了关键实验数据，对离子束分析技术和辐射物理研究具有重要参考价值。