铁电器件中极化与击穿过程的原位激光光电子显微成像研究

【字体: 时间:2025年08月13日 来源:Ultramicroscopy 2

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  本文推荐:研究团队开发了集成交流/直流电学表征系统(ADECS)的原位激光光电子发射显微镜(laser-PEEM),成功实现了对Hf0.5Zr0.5O2(HZO)铁电电容器极化-电压(P-V)特性的无损观测,首次通过顶部电极可视化击穿导电路径和氧化物半导体(InZnOx)的极化对比,为铁电场效应晶体管(FeFET)和铁电隧道结(FTJ)的失效机制研究提供了突破性技术手段。

  

Highlight

我们开发了集成铁电表征系统的原位激光光电子发射显微镜(laser-PEEM)。通过内置索耶-托尔电路(Sawyer-Tower circuit),成功测量了铁电器件的极化-电压(P-V)特性曲线。该系统在Hf0.5Zr0.5O2(HZO)铁电电容器中获得了典型的场循环滞回曲线,并首次在无需破坏处理的情况下,通过顶部电极直接观测到场应力导致的介电击穿导电路径。

观察铁电电容器的疲劳与击穿过程

采用Cst=20 nF参数的原位激光-PEEM系统,我们捕捉到铁电电容器从疲劳到击穿的全过程。样品设计面积为40 μm×30 μm,通过正负上下脉冲(PUND)方法消除寄生电容影响。如图6所示,在施加双极场应力1个周期后,测得2Pr为47 μC/cm2——这与传统HZO电容器的唤醒特性高度吻合。

结论

本研究的激光-PEEM系统结合ADECS,首次实现了对HfO2基铁电器件极化对比和电子态分布的双重测量。通过优化标准电容Cst,我们不仅获得了清晰的HZO电容器滞回曲线,更在介电击穿后直接观察到导电路径的纳米级形貌。这项技术为铁电场效应晶体管(FeFET)和铁电隧道结(FTJ)等器件的失效分析开辟了全新途径。

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