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高压扩散控制结合退火实现NaxAlB14组分均匀调控及其电子特性研究
【字体: 大 中 小 】 时间:2025年08月16日 来源:Journal of Alloys and Compounds 6.3
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本文创新性地采用高压扩散控制(HPDC)结合退火工艺,成功实现了NaxAlB14中钠组分的均匀调控,突破了传统固态反应无法获得非化学计量比亚稳态化合物的限制。通过调控Na脱嵌过程,首次系统研究了硼基共价框架材料中缺陷态(如B空位)对电子结构(DOS)和光学带隙的调控机制,为设计可调电子特性的功能硼化物提供了新范式。
NaAlB14粉末通过钠蒸气烧结法制备,随后在4 GPa高压和900°C条件下退火2小时。高压处理不仅增强了颗粒间结合力,还能通过压缩材料体积来抑制Na脱嵌导致的机械损伤,为钠扩散提供了理想通道。
图3(a)显示不同Na浓度样品的电阻率温度依赖性。原始NaAlB14的电导率差异可能源于硼位点缺陷或间隙硼原子。值得注意的是,随着Na含量降低(x=0.44时),室温电阻率骤降至10-3 Ω·cm量级,光学带隙也从2.1 eV缩小至1.4 eV,展现出显著的半导体-金属转变特性。
通过11B/27Al核磁共振(NMR)和密度泛函理论(DFT)计算揭示了机制:硼空位在特定晶格位置形成深能级缺陷态,这些态密度(DOS)在费米能级附近聚集,如同在带隙中心架设了"电子高速公路",从而显著提升载流子迁移率。DFT预测与实验观测完美吻合,证实B空位是光学带隙收缩的"幕后推手"。
本研究通过"高压扩散刹车+退火均质化"的创新策略,首次获得组分均匀的NaxAlB14(x=0.89/0.44)亚稳态材料。这项工作不仅拓展了扩散控制技术在共价框架材料中的应用边界,更开创了通过缺陷工程精准调控硼基材料电子特性的新途径。
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