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二维有机分子晶体缺陷工程新策略:种子共组装实现可控缺陷构建与高效分子识别
【字体: 大 中 小 】 时间:2025年08月27日 来源:Nature Communications 15.7
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本研究通过超饱和溶液种子共组装策略,创新性地在两种定制设计的有机分子(1和2)共结晶过程中实现氢键网络缺陷的可控构建。研究人员利用分子2的分子内氢键特性,在分子1形成的二维晶体框架中精准引入缺陷位点,通过调节两种分子比例实现缺陷密度从0到54 site/nm3的精确调控。这些缺陷展现出对有机磷农药dimethoate的特异性双氢键识别能力,检测限低至0.1 ppb。该工作为有机材料缺陷工程提供了新范式,在环境监测和分子传感领域具有重要应用价值。
在材料科学领域,缺陷往往被视为影响材料性能的不利因素,但近年来兴起的缺陷工程(defect engineering)却将缺陷转化为调控材料性能的有力工具。虽然这一策略在无机材料和金属有机框架(MOFs)中已取得显著成效,但在有机分子晶体中实现可控缺陷构建仍面临巨大挑战——有机材料固有的结构柔性和热不稳定性使得传统的高温处理、离子辐照等缺陷引入方法难以适用。如何在不破坏有机晶体结构完整性的前提下,精准构建并调控缺陷成为该领域亟待解决的科学难题。
《Nature Communications》最新发表的研究成果给出了创新性解决方案。Wenjun Tai、Yanjun Gong等研究者突破性地发展了基于超饱和溶液种子共组装(supersaturated solution-fed seeded coassembly)的有机晶体缺陷构建策略。该工作设计了两类功能互补的分子构建单元:作为主体框架的分子1具有双向氢键位点,可形成连续氢键网络;作为缺陷诱导剂的分子2则通过分子内氢键(2-(2'-hydroxyphenyl)benzimidazole)选择性阻断氢键网络的延伸。通过精确调控两种分子的比例,在二维共晶体(2D cocrystals)中实现了缺陷密度的程序化调控,并意外发现这些缺陷对有机磷农药dimethoate展现出卓越的分子识别能力。
研究团队采用三项关键技术:1)超饱和溶液种子自组装技术构建尺寸均一的二维晶体基底;2)单晶X射线衍射(SCXRD)结合选区电子衍射(SAED)解析缺陷结构;3)定制荧光检测系统评估缺陷位点的分子识别性能。所有实验均在25°C的hexane/1-propanol(10:1 v/v)混合溶剂体系中完成。
【分子设计】部分揭示了精巧的分子工程策略。分子1的苯并咪唑端基可与醇类形成连续氢键网络,而分子2通过分子内氢键(O···H-N:2.10 ?,N···H-O:1.92 ?)使一侧氢键位点失活,仅保留单侧结合能力。这种设计确保分子2能嵌入分子1的晶体框架,同时必然产生氢键网络缺陷。
【Construction of 2D cocrystals with regulated defects】部分展示了种子共组装的精确控制能力。通过调节分子1与2的比例(5:1至1:5),缺陷密度呈现线性增长趋势,最高达54 site/nm3。有趣的是,缺陷密度增加还引发晶体形貌从六边形到正方形的转变,SAED证实这源于氢键缺陷导致的各向异性生长速率变化。
【Effects of defects on optical properties】部分阐明了缺陷密度与荧光性能的定量关系。随着缺陷密度增加,荧光量子产率(FQY)从60%(无缺陷)降至20%,荧光寿命从10 ns缩短至4.4 ns。这种变化源于缺陷位点游离N-H基团增强的非辐射跃迁。
【Detection of trace dimethoate】部分揭示了缺陷的应用价值。具有43 site/nm3缺陷密度的二维共晶体对dimethoate的检测限低至0.1 ppb,且对水、常见有机溶剂及其他农药具有优异选择性。DFT计算显示,dimethoate通过双氢键(O···H-N:2.01 ?和N···H-O:2.00 ?)与缺陷位点特异性结合,结合能高达32.9 kcal/mol,远高于完整晶体表面的6.4 kcal/mol静电相互作用。
该研究在分子晶体缺陷工程领域取得三项重要突破:1)建立了首个通过分子共组装精确调控有机晶体缺陷的方法学;2)揭示了缺陷密度-形貌-光学性能的构效关系;3)发现了缺陷介导的高效分子识别新机制。这项工作不仅为有机功能材料设计开辟了新途径,其发展的缺陷特异性识别原理更为环境污染物检测提供了新思路。研究者特别指出,这种"缺陷即功能"的设计理念可拓展至催化、光电转换等领域,为开发新一代有机智能材料奠定基础。
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