基于高通量分析技术的单抗羟赖氨酸水平调控策略及培养基组分影响研究

研究人员针对单克隆抗体中异常升高的羟赖氨酸(Hyl)修饰（达20%-35%）展开溯源研究，通过开发IdeS酶解结合质谱定量新方法，发现传统胰酶肽图分析会低估10倍Hyl水平。锁定培养基铁离子浓度是关键调控因子，最终通过优化Fe(III)补充策略将Hyl降至10%-15%，为生物制药工艺质量控制提供新方案。

　　

羟赖氨酸(Hyl)作为赖氨酸的翻译后羟基化修饰(PTM)，在单抗中通常含量极低而不被列为关键质量属性(PQA)。然而使用Media A培养时，该修饰竟飙升至20%-35%，迫使研究团队启动从细胞培养条件到培养基组分的全面溯源。

最初通过非定量的完整质谱检测发现该修饰，肽图分析确认了位点信息。但深入调查发现：传统胰酶肽图会因酶切不完全而低估10倍Hyl水平！团队迅速将分析方法升级为IdeS酶解结合还原质谱，实现快速精准定量。

转用专利培养基Media B后，Hyl水平成功减半至10%-15%。进一步研究发现：培养基中铁离子Fe(III)浓度与Hyl含量呈负相关。这个重大发现催生出可靠的工艺控制策略——通过补充Fe(III)可有效抑制Hyl形成。该方案在500L生物反应器规模成功验证，同时建立的高通量分析方法为生物制品质量调控提供了新工具。