双空穴注入层高效量子点发光器件:突破微显示技术瓶颈的创新策略

【字体: 时间:2025年09月01日 来源:Organic Electronics 2.6

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  本文推荐:量子点发光器件(QLEDs)在微显示领域面临空穴注入不足和漏电流等挑战。作者创新性采用自组装有机小分子层构建双空穴注入层(HIL),结合超细像素隔离结构(CBL),使器件外量子效率(EQE)提升至19.6%,功率效率(PE)达20.63 lm/W。该研究为AR/VR近眼显示提供了高性能解决方案。

  

Highlight

通过直接光刻技术成功制备高效高分辨率QLEDs:在传统PEDOT:PSS上自组装2PACz分子层形成双空穴注入层(HIL),显著降低空穴注入势垒;同时设计蜂窝状电荷阻挡层(CBL)隔离非发光区的HTL/ETL接触。优化后器件EQE达19.6%,PE提升至20.63 lm/W,远超对照组(14.6%,10.54 lm/W)。

Materials

DL-1000-C光刻胶购自日本东丽,PEDOT:PSS、氧化锌(ZnO)和2PACz来自西安优睿太阳能有限公司。聚合物PF8Cz购自伏安光电,交联剂DTBPA采购于阿拉丁,银电极材料由中诺先进材料科技提供。

Results and Discussion

图1展示直接光刻制备微米级量子点阵列:当交联剂浓度>3 wt%时图案边界模糊,1 wt%为最佳配比(图1a)。1.5 μm像素直径的RQD阵列呈现清晰边缘(图1b-d),2.5 μm间距的蜂窝状CBL有效阻隔漏电流(图1e)。

Conclusion

该研究通过双HIL设计和CBL空间隔离策略,解决了高分辨率QLEDs的载流子失衡和漏电流难题。瞬态电致发光(TREL)测试显示器件具备快速响应特性,为近眼显示应用提供创新技术路径。

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