新型芴衍生物作为电子-有机化合物的非线性光学性能研究：合成、三次谐波产生与计算模拟

本文聚焦六种新型芴衍生物（F1-6）的非线性光学（NLO）特性，通过密度泛函理论（DFT）计算与实验（如三次谐波产生THG）相结合，揭示了电子给体基团（如N(CH3)2、OH）对A-π-D型化合物电子转移及超极化率的显著影响，为光通信、激光技术等领域的高性能NLO材料设计提供了理论依据。

　　

亮点

本研究通过实验与理论计算揭示了六种新型芴衍生物（F1-6）的非线性光学（NLO）性能。这些A-π-D型化合物通过苯环上的取代基（如N(CH₃)₂、NO₂）调控分子内电荷转移（ICT），显著增强三次谐波产生（THG）响应，为高性能有机NLO材料开发提供了新思路。

吸收光谱

紫外-可见光谱分析显示，化合物1在400–550 nm处存在n–π跃迁特征峰，而所有化合物在300–450 nm范围内的π–π跃迁表明其强共轭特性。值得注意的是，这些化合物在波长>520 nm区域无吸收，暗示其在可见光区的良好光学透明性。

结论

结合密度泛函理论（DFT）计算与THG实验，证实电子给体基团（如N(CH₃)₂）能显著提升芴衍生物的NLO敏感性。这类A-π-D结构材料在光电子器件中展现出广阔应用前景。