非晶态沸石咪唑酯骨架薄膜的自旋涂覆技术在光刻应用中的突破

针对非晶态沸石咪唑酯骨架（aZIF）材料缺乏可靠涂覆方法的问题，研究人员开发了一种基于计算流体动力学建模的自旋涂覆技术，实现了晶圆级aZIF薄膜的可控制备，为先进光刻工艺和分离膜应用提供了重要解决方案。

　　

通过自旋涂覆技术实现非晶态沸石咪唑酯骨架（amorphous Zeolitic Imidazolate Framework, aZIF）薄膜的沉积，为光刻应用开辟了新途径。aZIF材料虽在电子束和极紫外光刻（EUV lithography）中作为光刻胶展现潜力，并适用于分离膜等领域，但其沉积方法长期依赖经验性试错，导致薄膜成分、厚度与均匀性难以控制，且难以实现晶圆级规模应用。

本研究提出创新解决方案：采用即时混合的稀释前驱体，通过自旋涂覆技术在硅晶圆上制备高质量aZIF薄膜。该方法的关键突破在于引入计算流体动力学（Computational Fluid Dynamics）建模，通过量化分析沉积速率和反应物传输扩散系数，首次实现对沉积过程的物理预测与精准调控。

实验证明，该技术成功制备出厚度可控、均匀性优异的aZIF薄膜，并演示了其在超越极紫外光刻（beyond EUV lithography）中的高分辨率图形化能力与晶圆级应用潜力。这项研究不仅解决了aZIF材料规模化制备的瓶颈问题，更为功能性薄膜材料的理性设计与工艺开发提供了可量化、可预测的技术范式。