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硅含量对CrAlSiN涂层裂纹行为的影响机制及其在加工工具中的应用前景
【字体: 大 中 小 】 时间:2025年09月14日 来源:Surface and Coatings Technology 5.4
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本文系统研究了不同硅含量(xSi=10-29 at.-%)对物理气相沉积(PVD)CrAlSiN纳米复合涂层裂纹行为的影响。通过纳米压痕技术发现,硅含量提升虽未改变硬度(HIT=25.5±1.6 GPa),但显著提高压痕模量并优化裂纹抗性,其中xSi=22 at.-%涂层在1750 mN载荷下表现出最优抗裂性能,为高温加工工具涂层设计提供新方向。
Highlight
硅含量对CrAlSiN涂层裂纹行为的显著影响揭示了其力学性能与微观结构的复杂关联。通过高载荷纳米压痕测试发现,尽管硬度保持稳定,但硅含量增加会提升压痕模量,并显著改变裂纹萌生阈值——xSi=10 at.%涂层在1000 mN载荷下首次出现裂纹,而xSi=29 at.%涂层在800 mN即产生裂纹。值得注意的是,xSi=22 at.%涂层在1750 mN高载荷下展现出最短且最少的裂纹扩展,表明中高硅含量可优化涂层抗损伤能力。
Coating properties and compound adhesion
化学成分分析显示,随着硅含量cSi从5 at.%增至16 at.%,氮含量cN同步从47 at.%上升至52 at.%。在Al/Cr比恒定于55/45的条件下,金属/氮比例(CrAlSi)/N因氮含量增加而自适应调整。X射线光电子能谱(XPS)研究表明……
Conclusion
本研究通过高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)技术制备了不同硅含量的CrAlSiN涂层,并重点分析了其力学性能与裂纹行为。结果表明:所有涂层硬度无显著差异,压痕模量随硅含量增加仅轻微上升。高硅含量涂层(尤其是xSi=22 at.%)在高温条件下展现出优异的裂纹抗性,这与其非晶Si3N4相抑制晶粒生长(d < 20 nm)及优化应力分布的特性密切相关。
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